The fabrication of the curved diffraction gratings for UV
Автор: Nesterenko D.V., Poletaev S.D., Moiseev O.Y., Yakunenkova D.M., Volkov A.V., Skidanov R.V.
Журнал: Известия Самарского научного центра Российской академии наук @izvestiya-ssc
Рубрика: Физика и электроника
Статья в выпуске: 4-1 т.13, 2011 года.
Бесплатный доступ
Electron beam lithography and reactive ion etching has been used to advantage in the development of curved diffractive gratings for UV with 200 nm pitch size on the quartz substrate. The application of the technology is described.
Electron beam lithography, reactive ion etching, curved diffraction grating, quartz, uv
Короткий адрес: https://sciup.org/148200124
IDR: 148200124
Статья научная
