Анализ распространения излучения через одноуровневые фрагменты ДОЭ с технологическими погрешностями
Автор: Головашкин Д.Л., Павельев В.С., Дюпарре М., Кононенко В.В.
Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics
Рубрика: Технологии и применения компьютерной оптики
Статья в выпуске: 22, 2001 года.
Бесплатный доступ
Работа посвящена анализу систематических технологических погрешностей, возникающих при изготовлении алмазных ДОЭ с помощью лазерной абляции. Целью предлагаемой статьи является численный анализ влияния погрешностей изготовления в виде «бортиков» на стыках элементарных областей структурирования с одинаковой расчетной высотой микрорельефа. В работе делаются заключения о допустимой высоте «бортиков» и характере влияния технологических погрешностей различной формы на работу ДОЭ.
Короткий адрес: https://sciup.org/14058507
IDR: 14058507