Design and analysis of antireflection layer on the surface of crystalline silicon solar cell
Автор: Zhao Yilie
Журнал: Бюллетень науки и практики @bulletennauki
Рубрика: Технические науки
Статья в выпуске: 6 т.8, 2022 года.
Бесплатный доступ
With the positive development of photovoltaic technology, improving efficiency and reducing cost has become a global problem facing the solar industry. The development of solar cell anti-reflection film can significantly reduce the reflection of sunlight on the surface of the battery, increase the flux of light entering the battery, and create more photo-generated carriers, which is the most economical and effective way to improve the efficiency of the battery. More photo-generated carriers are produced, which is the most economical and effective way to improve the efficiency of batteries. Therefore, it’s of great value to explore a performance-matched antireflective film material for solar cells and its preparation process. The plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride antireflective coatings has been widely used in photovoltaic industry. The aim is to form an antireflection film on the surface of crystalline silicon solar cells and achieve good passivation effect. The thickness and refractive index of the antireflective film have an important influence on the performance of the battery. It is of great significance to explore the optimum technological conditions for preparing the optimum thin films. Considering the optical properties, stability, preparation process and production cost of antireflective film materials, the influence of antireflective film on the output characteristics of solar cells was studied by using PC1D simulation software.
Solar energy battery, decreased membrane, reflectivity curve, pc1d
Короткий адрес: https://sciup.org/14124431
IDR: 14124431 | УДК: 681.7.064.454 | DOI: 10.33619/2414-2948/79/48
Дизайн и анализ просветляющего покрытия на поверхности кристаллического кремния солнечного элемента
С положительным развитием фотоэлектрических технологий повышение эффективности и снижение затрат стало глобальной проблемой, стоящей перед солнечной промышленностью. Разработка антибликовой пленки для солнечных батарей может значительно уменьшить отражение солнечного света на поверхности батареи, увеличить поток света, попадающего в батарею, и создать больше фотогенерируемых носителей, что является наиболее экономичным и эффективным способом улучшения эффективность аккумулятора. Выпускается больше фотогенерируемых носителей, что является наиболее экономичным и эффективным способом повышения эффективности батарей. Поэтому очень важно изучить антибликовый пленочный материал с соответствующими характеристиками для солнечных элементов и процесс его изготовления. Плазменное химическое осаждение из паровой фазы антиотражающих покрытий из нитрида кремния широко используется в фотоэлектрической промышленности. Цель состоит в том, чтобы сформировать просветляющую пленку на поверхности солнечных элементов из кристаллического кремния и добиться хорошего пассивирующего эффекта. Толщина и показатель преломления антиотражающей пленки оказывают большое влияние на характеристики батареи. Большое значение имеет исследование оптимальных технологических условий получения оптимальных тонких пленок. Принимая во внимание оптические свойства, стабильность, процесс подготовки и стоимость производства просветляющих пленочных материалов, влияние просветляющей пленки на выходные характеристики солнечных элементов было изучено с использованием программного обеспечения для моделирования PC1D.
Список литературы Design and analysis of antireflection layer on the surface of crystalline silicon solar cell
- Wei, Guangpu (2006). Solar energy and sunshine economy. Shanghai electric power, (4): 338.
- Lei, Yongquan (2000). New energy materials. Tianjin: Tianjin University Press.
- Miles, R. W., Hynes, K. M., & Forbes, I. (2005). Photovoltaic solar cells: An overview of state-of-the-art cell development and environmental issues. Progress in crystal growth and characterization of materials, 51(1-3), 1-42. https://doi.org/10.1016/j.pcrysgrow.2005.10.002
- Zemin, J. (2008). Reflections on energy issues in China. China Nuclear Power, 1.
- Zhang, Shi, Wang, Xiaoping, Wang, Lijun (2010). Research progress of thin film solar cells. Materials Guide: review, 24(5), 126.
- Chapin, D. M., Fuller, C. S., & Pearson, G. L. (1991). A new silicon pn junction photocell for converting solar radiation into electrical power. In Semiconductor Devices: Pioneering Papers (pp. 969-970). https://doi.org/10.1142/9789814503464_0138
- Smits, F. M. (1976). History of silicon solar cells. IEEE Transactions on Electron Devices, 23(7), 640-643. https://doi.org/10.1109/T-ED.1976.18465
- Liu, Zuming, Li, jiehui, & Liao, Hua (2004). New progress in manufacturing technology of crystalline silicon solar cells [R] Proceedings of the 8th Photovoltaic Conference. P. 802-805.
- Dong, Yufeng, Wang, Wanlu, & Han, Daxing (1999). American photovoltaic power generation and million roof plan, solar energy, (1): 29
- Geng, Xinhua, Sun, Yun, & Wang, Zongpan (1999). Research progress of thin film solar cells. Physics, 28, 96.
- An, Qilin (2009). Principle and technology of solar cell. Shanghai: Shanghai Science and Technology Press.
- Martin, Written (2010). Working principle, technology and system application of solar cell. Shanghai: Shanghai Jiaotong University Press.
- Yan, Hui (2004). Research on high-precision plating with high reflection. Helie: Hefei University of technology.
- Straumal, B. B., Vershinin, N. F., Cantarero-Saez, A., Friesel, M., Zieba, P., & Gust, W. (2001). Vacuum arc deposition of protective layers on glass and polymer substrates. Thin Solid Films, 383(1-2), 224-226. https://doi.org/10.1016/S0040-6090(00)01799-5
- Zheng, S. K., Wang, T. M., Xiang, G., & Wang, C. (2001). Photocatalytic activity of nanostructured TiO2 thin films prepared by dc magnetron sputtering method. Vacuum, 62(4), 361-366. https://doi.org/10.1016/S0042-207X(01)00353-0
- Hovel, H. J. (1978). TiO2 antireflection coatings by a low temperature spray process. Journal of the Electrochemical Society, 125(6), 983.
- DeLoach, J. D., Scarel, G., & Aita, C. R. (1999). Correlation between titania film structure and near ultraviolet optical absorption. Journal of applied physics, 85(4), 2377-2384. https://doi.org/10.1063/1.369553
- Kamataki, O., Iida, S., Saitoh, T., & Uematsu, T. (1990, May). Characterization of antireflection films for surface-passivated crystalline silicon solar cells using spectroscopic ellipsometry. In IEEE Conference on Photovoltaic Specialists (pp. 363-367). IEEE. https://doi.org/10.1109/PVSC.1990.111649
