Фотогальванические характеристики и коэффициент неидеальности фотоВАХ
Автор: Ражабов И.Т., Шоюсупов Ш.
Журнал: Экономика и социум @ekonomika-socium
Рубрика: Основной раздел
Статья в выпуске: 12 (67), 2019 года.
Бесплатный доступ
В статье теоретически исследована связь между основными фотогальваническими характеристиками и коэффициентом неидеальности фотовольт-амперной характеристики (фотоВАХ) солнечных элементов. Определено, что коэффициент неидеальности фотоВАХ имеет разные значения для разных точек фотоВАХ солнечных элементов
Солнечные элементы, фотовольт-амперная характеристика, коэффициент неидеальности
Короткий адрес: https://sciup.org/140247451
IDR: 140247451
Текст научной статьи Фотогальванические характеристики и коэффициент неидеальности фотоВАХ
Основные особенности солнечных батарей (СЭ) из гидрированного аморфного кремния (a-Si:H) состоят в том, что они могут быть изготовлены на больших поверхностях и демонстрируют более высокие коэффициенты оптического поглощения и фоточувствительность рабочей поверхности, чем монокристаллические полупроводники. Эти свойства определяются нерегулярностью структуры a-Si:H и наличием в ней водорода [1]. Одной из актуальных проблем физики полупроводников является проведение целенаправленных научных исследований в этой области, в том числе теоретическое исследование фотогальванических свойств гидрогенизированных аморфных СЭ на кремниевых основе.
Работа [2] показывает, что соленость СЭ (U сu ), ток короткого замыкания (j кз ) и нелинейность фотоэлектрических коэффициентов (n') фотоВАХ не взаимосвязаны и поэтому могут быть изучены отдельно. Поэтому в настоящей работе теория связи этих параметров с коэффициентами фотоВАХ основана на новых выражениях для связи СЭ с током короткого замыкания, эффективным напряжением (U эф ), эффективной плотностью тока ( j эф ) и эффективными емкостями (P эф ).
В работе [3] a-Si:H был выбран в качестве модели СЭ на основе аморфного гидрированного кремния для тока насыщения (j 0 ) получнно:
q p 1
j 0 = j 00 exp — ~ к k
т к To
T J)
для напряжение холостого хода:
T
U си = (U си 0 - n 1 P)~ + n 1 P , (2)
T 0
для плотности тока короткого замыкание:
J Km = j 00 exp
q ( P o - Y T )zi Ц
()
k TT
q ( P o - Y T ) ( и си o _
. n ’2 kT o \p - Y T ) T
— 1
Где T 0 = 300 K , j 00 - ток насыщения, высота потенциального барьера СЭ и U си0 - напряжение солености, k - постоянная Больцмана, q - заряд электрона, высота потенциального барьера, n' 1 - фотоэлектрический коэффициент фотоВАХ в точке, где измеряется соленость, n' 2 - это неоднородность фотоВАХ в точке, где определяется ток короткого замыкания. Его значение находится в диапазоне эВ / К для полупроводников Y ~ ( 5 - 10 - 4 — 10 - 5 ) [4] .
Из этих формул видно, что интенсивность тока насыщения СЭ не зависит от фотоэлектрического коэффициента фотоВАХ.
В работе [5] использовались следующие простые формулы для определения эффективного напряжения, эффективной плотности тока и зависимости температуры от метода определения коэффициента заполнения ( ff ) с использованием экспериментов по СЭ с использованием фотоВАХ:
U
эф
n ' kT j n ' kT 3 кт 3
q j 0 qUсu
Y
J ^ = J m
n ' kT
—
\
к qU cu
—
j кт )
n'3 kTj эф q
кт 11+ I
j 0 n '3 kT ^
кт q си
j n' kT кт 3
j 0 qUси .
Здесь n'3 - не фотоэлектрический коэффициент фотоВАХ в точке, где определяются эффективные значения фотогальванических характеристик.
В работе [6] эксперименты, полученные для связи указанных параметров с температурой, являются результатом расчетов по формуле, приведенной в (2), где напряжение солевого раствора очень сильно изменяется в результате изменения фотоэлектрического коэффициента фотоВАХ. Установлено, что значение напряжения идеальных СЭ будет больше высоты барьера
E g 0
^0 = ~q
Здесь E g0 - энергетическая ширина слота мобильности идеальных СЭ. И этого не может быть. Следовательно, в точке, где интенсивность соли СЭ определяется на фотоВАХ, мы можем сделать вывод, что коэффициент неидеалности фотоВАХ равен 1 ( n 1 = 1 ) или что интенсивность солености не зависит от фотоэлектрического коэффициента.
Таким образом, в этом исследовании было обнаружено, что СЭ имеют разные значения неидеального коэффициента фотоВАХ в разных точках фотоВАХ. Установлено, что любое увеличение нефотоэлектрического коэффициента СЭ приводит к снижению фотоэлектрических характеристик, что приводит к уменьшению.
Теоретические исследования связи этих параметров с фотоэлектрическим коэффициентом нелинейности на основе новых выражений СЭ для плотности тока связи, эффективной плотности тока и эффективной емкости емкости. Корреляция этих параметров с фотоэлектрическим коэффициентом нелинейности в точке плотности тока фотоэлектрического короткого замыкания оказалась очень сильной. Было показано, что связывание фотоВАХ в точке, где определяются эффективные значения фотогальванических характеристик, является линейным. Было показано, что привязка эффективного напряжения к току короткого замыкания в точке, в которой фотоВАХ подключен к коэффициенту неидеалности, очень слабая.
Список литературы Фотогальванические характеристики и коэффициент неидеальности фотоВАХ
- Аморфные полупроводники: Пер. с англ./Под ред. М. Бродски. -М.: Мир, 1982.-418 с.
- Фаренбрух А., Бьюб Р. Солнечные элементы (теория и эксперимент), М., Энергоатомиздат, 1987, -278 с.
- Зайнобиддинов С., Икрамов Р.Г., Алиев Р., Исманова О.Т., Ниязова О., Нуритдинова М.А. "Влияние температуры на фотоэлектрические характеристики солнечных элементов из аморфного кремния", Гелиотехника, 2003, № 3, с.19-22.
- Алиев Р., Алиназарова М.А., Икрамов Р.Г., Исманова О.Т. Влияния температуры на эффективные значения фотогальванических характеристик солнечных элементов. International Scientifik Journal for Alternativ Energy and Ekologi, Scientifik Technical Center TATA, № 15, (137) 2013. с.36-40.
- Aliev R., Ikramov R.G., Alinazarova M.A., Ismanova O.T. Influence of temperature on photocurrent of amorphous semiconductor-based solar element. Applied Solar Energy, 2009, Vol.45, No.3, pp. 148-150.
- Алиев Р., Икрамов Р.Г., Исманова О.Т., Алиназарова М.А. Полуэмпирическое уравнение для температурных зависимостей фотоэлектрических параметров a-Si:H солнечных элементов. Гелиотехника, 2011, №1, с. 61-64