Химико-механическое полирование. Часть II. Модель локального взаимодействия
Автор: Гольдштейн Роберт Вениаминович, Осипенко Николай Михайлович
Статья в выпуске: 3, 2011 года.
Бесплатный доступ
На основе проведенного ранее аналитического обзора современного состояния теории процесса предложены подходы к задаче моделирования химико-механического полирования (ХМП) с учетом комплекса явлений различного масштаба, определяющих в совокупности скорость процесса полирования, таких как диффузия активной рабочей жидкости в поверхностный слой, ограничение экспозиции химической обработки механически нагруженным полировальником. Построена модель процесса ХМП, в рамках которой получена зависимость скорости полирования от приложенной нагрузки, обобщающая эмпирический закон Престона.
Химико-механическое полирование, абразив, жидкость, планаризация, модель
Короткий адрес: https://sciup.org/146211386
IDR: 146211386