Исследование травления диоксида кремния во внеэлектродной плазме с использованием хромовой маски
Автор: Подлипнов Владимир Владимирович, Колпаков Всеволод Анатольевич, Казанский Николай Львович
Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics
Рубрика: Дифракционная оптика, оптические технологии
Статья в выпуске: 6 т.40, 2016 года.
Бесплатный доступ
Представлены результаты травления структуры Cr-SiO2 в потоке внеэлектродной плазмы высоковольтного газового разряда в среде CF4 + O2 в соотношении 50:1 при токе разряда - I = 80 мА, ускоряющем напряжении - U = 1,2 кВ и длительности обработки в плазме - t = 5 мин. Показано, что изменения интенсивности полос рамановских спектров в процессе травления соответствуют наноструктурным изменениям тонких пленок Cr-SiO2 и хромовой маски. Особенность травления заключена в удалении окисла Cr2O3 при увеличении молекул азота в структуре пленки Cr. Обнаружено, что продукты распыления, осажденные внутри окон маски хрома при U = 1,2 кВ и I = 80 мА, согласно полученным рамановским спектрам, представляют соединение Cr2N.
Диффузия, ионно-электронный поток частиц, отжиг, травление, переосаждение, микромаскирование
Короткий адрес: https://sciup.org/14059626
IDR: 14059626 | DOI: 10.18287/2412-6179-2016-40-6-830-836
Список литературы Исследование травления диоксида кремния во внеэлектродной плазме с использованием хромовой маски
- Бобров, С.Т. Оптика дифракционных элементов и систем/С.Т. Бобров, Г.И. Грейсух, Ю.Г. Туркевич. -Л.: Машиностроение, 1986. -223 с.
- Казанский, Н.Л. Газоразрядные приборы, формирующие направленные потоки внеэлектродной плазмы. Ч. 1. Анализ и конструктивные особенности приборов/Н.Л. Казанский, В.А. Колпаков, А.И. Колпаков, С.В. Кричевский//Научное приборостроение. -2012. -Т. 22, № 1. -С. 13-18.
- Формирование оптического микрорельефа во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда/Н.Л. Казанский, В.А. Колпаков. -М.: Радио и связь, 2009. -220 с.
- Казанский, Н.Л. Моделирование процесса очистки поверхности диэлектрических подложек в плазме газового разряда высоковольтного типа/Н.Л. Казанский, В.А. Колпаков, С.В. Кричевский//Компьютерная оптика. -2005. -№ 28. -С. 80-86.
- Казанский, Н.Л. Исследование особенностей процесса анизотропного травления диоксида кремния в плазме газового разряда высоковольтного типа/Н.Л. Казанский, В.А. Колпаков, А.И. Колпаков//Микроэлектроника. -2004. -Т. 33, № 3. -С. 209-224.
- Казанский, Н.Л. Эффект объемной модификации полимеров в направленном потоке низкотемпературной плазмы/Н.Л. Казанский, В.А. Колпаков//Журнал технической физики. -2009. -Т. 79, Вып. 9. -С. 41-46.
- Kazanskiy, N.L. Gas discharge devices generating the directed fluxes of off-electrode plasma/N.L. Kazanskiy, V.A. Kolpakov, V.V. Podlipnov//Vacuum. -2014. -Vol. 101. -P. 291-297. - DOI: 10.1016/j.vacuum.2013.09.014
- Волков, А.В. Применение тонких плёнок молибдена для контактных масок при изготовлении микрорельефов элементов дифракционной оптики/А.В. Волков, О.Ю. Моисеев, С.Д. Полетаев, И.В. Чистяков//Компьютерная оптика. -2014. -Т. 38, № 4. -С. 757-761.
- Протасов, Д.Ю. Использование маски из хрома для плазмохимического травления слоев AlxGa1-xN/Д.Ю. Протасов, Н.Р. Вицина, Н.А. Валишева, Ф.Н. Дульцев, Т.В. Малин, К.С. Журавлев//Журнал технической физики. -2014. -Т. 84, № 9. -С. 96-99.
- Волков, А.В. Тонкопленочная медь как маскирующий слой в процессе плазмохимического травления кварца/А.В. Волков, Б.О. Володкин, С.В. Дмитриев, В.А. Ерополов, О.Ю. Моисеев, В.С. Павельев//Компьютерная оптика. -2007. -T. 31, № 4. -С. 52-54.
- Завьялов, П.С. Формирование светового шаблона крупногабаритных объектов методами дифракционной оптики/П.С. Завьялов, Ю.В. Чугуй//Компьютерная оптика. -2013. -Т. 37, № 4. -С. 419-425.
- Вейко, В.П. Повышение разрешающей способности лазерной термохимической записи на тонких пленках хрома путем многократного воздействия/В.П. Вейко, Е.А. Шахно, Д.А. Синев//Известия высших учебных заведений. Приборостроение. -2013. -Т. 56, № 12. -С. 57-61.
- Волков, А.В. Термоокислительная деструкция пленок молибдена при лазерной абляции/А.В. Волков, Н.Л. Казанский, О.Ю. Моисеев, С.Д. Полетаев//Журнал технической физики. -2015. -Т. 85, № 2. -С. 107-111.
- Нестеренко, Д.В. Cоздание криволинейных дифракционных решеток для ультрафиолетового диапазона/Д.В. Нестеренко, С.Д. Полетаев, О.Ю. Моисеев, Д.М. Якуненкова, А.В. Волков, Р.В. Скиданов//Известия Самарского научного центра Российской академии наук. -2011. -Т. 13, № 4. -С. 66-71.
- Казанский, Н.Л. Газоразрядные приборы, формирующие направленные потоки внеэлектродной плазмы. Ч. II. Результаты модификации. Новые приборы/Н.Л. Казанский, В.А. Колпаков, А.И. Колпаков, С.В. Кричевский, В.В. Подлипнов//Научное приборостроение. -2012. -Т. 22, № 2. -С. 44-50.
- He, J. Characterization of CrOx-Y2O3 catalysts for fluorination of 2-chloro-1, 1, 1-trifluoroethane/J. He, J.Q. Lu, G.Q. Xie, L. Qian, K.F. Chen, X.L. Zhang, M.F. Luo//Indian journal of chemistry. Section A. Inorganic, bio-inorganic, physical, theoretical & analytical chemistry. -2009. -Vol. 48A. -P. 489-497.
- Barshilia, H.C. Raman spectroscopy studies on the thermal stability of TiN, CrN, TiAlN coatings and nanolayered TiN/CrN, TiAlN/CrN multilayer coatings/H.C. Barshilia, K.S. Rajam//Journal of Materials Research. -2004. -Vol. 19(11). -P. 3196-3205. - DOI: 10.1557/JMR.2004.0444
- Гайслер, С.В. Анализ рамановских спектров аморфно-нанокристаллических пленок кремния/С.В. Гайслер, Л.И. Семенова, Р.Г. Шарафутдинов, Б.А. Колесов//Физика твердого тела. -2004. -T. 46, № 8. -С. 1484-1488.
- Barata, A. Characterisation of chromium nitride films produced by PVD techniques/A. Barata, L. Cunha, C. Moura//Thin Solid Films. -2001. -Vol. 398(399). -P. 501-506. - DOI: 10.1016/S0040-6090(01)01498-5
- База даных Проект RRUFF. Eskolaite. -Url: http://rruff.info/chem=Cr/notchem=Crome/display=default/R060892 (дата обращения 15.11.2016 г.)
- Raman data and analysis. Raman spectroscopy for analysis and monitoring. -Url: http://www.horiba.com/fileadmin/uploads/Scientific/Documents/Raman/bands.pdf. (дата обращения 15.11.2016 г.).
- Buttà, N. A Family of tin-oxide-based sensors with improved selectivity to methane/N. Buttà, L. Cinquegrani, E. Mugno, A. Tagliente, S. Pizzini//Sensors and Actuators B: Chemical. -1992. -Vol. 6(1-3). -P. 253-256. - DOI: 10.1016/0925-4005(92)80064-5