Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста
Автор: Брук Марк Аврамович, Жихарев Евгений Николаевич, Стрельцов Дмитрий Ростиславович, Кальнов Владимир Александрович, Спирин Александр Владимирович, Рогожин Александр Евгеньевич
Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics
Рубрика: Дифракционная оптика, оптические технологии
Статья в выпуске: 2 т.39, 2015 года.
Бесплатный доступ
Представлены некоторые результаты, касающиеся механизма, особенностей и практических возможностей предложенного авторами прямого метода формирования изображения в некоторых позитивных резистах непосредственно в процессе экспонирования электронным лучом в вакууме. На примере резиста из полиметилметакрилата показано, в частности, что этот метод удобен для получения микро- и наноструктур со скруглённым профилем сечения, а также для получения пространственных 3D-структур с хорошей точностью вертикальных размеров изображения и низкой шероховатостью поверхности. Представленные данные в целом, по мнения авторов, указывают на потенциальные прикладные возможности предлагаемого метода, в частности, для изготовления дифракционных оптических элементов.
Электронно-лучевая литография, новый сухой метод формирования микрорельефа, оптоэлектроника, дифракционные оптические элементы, 3d-структуры
Короткий адрес: https://sciup.org/14059349
IDR: 14059349
Список литературы Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста
- Дифракционная нанофотоника/А.В. Гаврилов, Д.Л. Го-ловашкин, Л.Л. Досколович, П.Н. Дьяченко, А.А. Кова-лёв, В.В. Котляр, А.Г. Налимов, Д.В. Нестеренко, В.С. Павельев, Р.В. Скиданов, В.А. Сойфер, С.Н. Хони-на, Я.О. Шуюпова; под ред. В.А. Сойфера. -М.: Физматлит, 2011. -680 с.
- Di Fabrizio, E. Fabrication of Diffractive Optical Elements by Electron Beam Lithography/E.Di Fabrizio, L. Grella, M. Baciocchi, M. Gentili//Diffractive Optics and Optical Microsystems; ed. S. Martellucci, Arthur N. Chester. -New York: Plenum Press, 1997. -P. 149-160.
- Волков, А.В. Формирование микрорельефа ДОЭ с использованием достижений микроэлектроники/А.В. Волков, Р.В. Скиданов//Компьютерная оптика. -2001. -№ 22. -С. 65-71.
- Нестеренко, Д.В. Создание криволинейных дифракционных решёток для ультрафиолетового диапазона/Д.В. Нестеренко, С.Д. Полетаев, О.Ю. Моисеев, Д.М. Якуненкова, А.В. Волков, Р.В. Скиданов//Известия Самарского научного центра Российской академии наук. -2011. -Т. 13, №4. -С. 66-71.
- Валиев, К.А. Физика субмикронной литографии/К.А. Валиев. -М.: Наука, 1990. -528 с.
- Murali, R. Metrology for Grayscale Lithography/R. Murali//AIP Conference Proceedings. -2007. -Vol. 931. -P. 419-422.
- Брук, М.А. Способ формирования маскирующего изображения в позитивных электронных резистах/М.А. Брук, Е.Н. Жихарев, В.А. Кальнов, А.В. Спирин, Д.Р. Стрельцов//Патент РФ на изобретение №2478226 от 06.09.2011, Бюл. № 9.
- Bruk, M.A. The new dry method of mask (relief) formation by direct electron-beam etching of resist/M.A. Bruk, E.N. Zhikharev, D.R. Streltsov, V.A. Kalnov, A.V. Spirin//Microelectronic Engineering. -2013. -Vol. 112. -P. 1-4.
- Schleunitz, A. Combining nanoimprint lithography and a molecular weight selective thermal reflow for the generation of mixed 3D structures/A. Schleunitz, Ch. Spreu, M. Vog-ler, H. Atasoy and H. Schift//J. Vac. Sci. Technol. B. -2011. -Vol. 29. -P. 06FC01.
- Брук, М.А. Радиационная деполимеризация полиметил-метакрилата, адсорбированного на силохроме/М.А. Брук, М.В. Кондратьева, А.А. Баранов, К.В. Пе-балк, А.М. Сергеев, Н.В. Козлова//Высокомолекулярные соединения. Серия А. -1999. -Т. 41, № 2. -С. 256-262.
