О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 19. О выборе оптимального решения обратной задачи при исследовании сверхтонких поверхностных пленок
Автор: Семененко Альберт Иванович, Семененко И.А.
Журнал: Научное приборостроение @nauchnoe-priborostroenie
Рубрика: Другие приборные разработки
Статья в выпуске: 4 т.20, 2010 года.
Бесплатный доступ
Предложен новый подход к решению математически некорректной обратной задачи эллипсометрии для сверхтонких поверхностных пленок, основанный на использовании отвечающих набору углов падения светового пучка измерений. Введены параметры-критерии, позволяющие находить оптимальное решение обратной задачи, наиболее близкое к точному решению. Результаты численного эксперимента показали большую точность оптимального решения при определении параметров сверхтонких пленок. Изучено влияние ошибок в задании оптических постоянных подложки на точность оптимального решения. Дан общий анализ особенностей обратной задачи по одновременному определению всех параметров отражающей однослойной системы со сверхтонкой пленкой.
Эллипсометрия, поляризационные углы, математически некорректная обратная задача, критерий, оптимальное решение, численный эксперимент, сверхтонкая пленка, подложка, оптические постоянные
Короткий адрес: https://sciup.org/14264679
IDR: 14264679 | УДК: 535.5.511:
On the new potentials of ellipsometry arising from the null optical circuit. Ellipsometry of real surface structures. 19. Optimal solution choice of inverse problem in studying of ultra thin superficial films
A new approach to the solution of mathematically incorrect inverse problem of elipsometry for ultra thin superficial films based on the using of measurements corresponding to angles of incidence set of a light beam is proposed. Parameters-criterion are introduced which allow to find the optimal solution of an inverse problem, the nearest to the exact solution. The results of the numerical experiment showed the great accuracy of the optimal solution during parameters determination of ultra thin films. The errors influence in assigning substrate optical constants on the accuracy of the optimal solution is studied. The general analysis of features of the inverse problem of simultaneous parameters determination of a reflecting single-layer system with ultra thin films is given.