Разработка методов формирования и контроля заданного распределения толщины фоторезиста при изготовлении конформальных корректоров
Автор: Корольков Виктор Павлович, Конченко Александр Сергеевич, Черкашин Вадим Владимирович, Миронников Николай Геннадиевич
Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics
Рубрика: Дифракционная оптика, оптические технологии
Статья в выпуске: 4 т.40, 2016 года.
Бесплатный доступ
В работе обсуждаются проблемы изготовления и контроля качества конформальных корректоров для мощных твердотельных YAG:Nd3+ лазеров. Предложено использовать метод безмасочной проекционной фотолитографии как альтернативу фотолитографии с зазором на основе растрированных полутоновых шаблонов. Рассмотрено применение метода зеркальной спектроскопической рефлектометрии для контроля формы корректоров на стадии рельефа в фоторезисте. Совокупность использованных методов значительно повышает производительность изготовления корректоров в сочетании с удешевлением процесса.
Зеркальная спектроскопическая рефлектометрия, безмасочная фотолитография, конформальные корректоры, измерение толщины тонких пленок, профилометрия
Короткий адрес: https://sciup.org/14059488
IDR: 14059488 | DOI: 10.18287/2412-6179-2016-40-4-482-488
Список литературы Разработка методов формирования и контроля заданного распределения толщины фоторезиста при изготовлении конформальных корректоров
- Корольков, В.П. Конформальные оптические элементы для коррекции искажений волнового фронта в активных элементах YAG: Nd3+/В.П. Корольков, Р.К. Насыров, А.Г. Полещук, Ю.Д. Арапов, А.Ф. Иванов//Квантовая электроника. -2013. -Т. 43, № 2. -C. 117-121.
- Korolkov, V.P. Computer controlling of writing beam in laser microfabrication of diffractive optics/V.P. Korolkov, R.V. Shimansky, V.V. Cherkashin, D. Denk//Компьютерная оптика. -2003. -Вып. 25. -C. 79-88.
- Korolkov, V.P. Freeform corrector for laser with large aperture yag:nd3+ active element/V.P. Korolkov, R.K. Nasyrov, A.G. Poleshchuk, Y.D. Arapov, A.F. Ivanov//Optical Engineering. -2014. -Vol. 53, Issue 7. -075105.
- Zhong, K.J. Maskless Lithography Based on DMD/K.J. Zhong, Y.Q. Gao, F. Li//Key Engineering Materials. -2013. -Vol. 552. -P. 207-213.
- Luo, N. Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach/N. Luo, Y. Gao, Z. Zhimin, X. Mengchao, W. Huaming//Optica Applicata. -2012. -Vol. 42(4). -P. 853-864.
- Heidelberg instruments MLA150 . -URL: http://www.himt.de/files/Factsheet%20Download/Factsheet_MLA150-Web.pdf (дата обращения 30.07.2016).
- Lee, D.-H. Optical System with 4 µm Resolution for Maskless Lithography Using Digital Micromirror Device/D.-H. Lee//Journal of the Optical Society of Korea. -2010. -Vol. 14, Issue 3. -P. 266-276.
- Корольков, В.П. Спектрофотометрический метод измерения глубины отражательных калибровочных решёток/В.П. Корольков, А.С. Конченко//Автометрия. -2012. -Т. 48, № 2. -С. 119-127.
- Бабин, С.В. Определение параметров профиля трапецеидальной дифракционной решетки на основе полиномиальных аппроксимаций отраженного поля/С.В. Бабин, Л.Л. Досколович, И.И. Кадомин, Е.А. Кадомина, Н.Л. Казанский//Компьютерная оптика. -2009. -Т. 33, № 2. -С. 156-161.
- Avantes enlightening spectroscopy/Thin film measurements . -URL: http://www.avantes.com/applications/markets/item/291-thin-film-measurements (дата обращения 30.07.2016).
- U.S. Patent 7,167,296 G02B 26/00, G03B 27/42, G03B 27/54, G03B 27/72, 359/290. Continuous direct-write optical lithography/W.D. Meisburger, filed of August 21, 2003, published of January 23, 2007.
- U.S. Patent 7,295,362 G02B 26/00, G02B 26/08, G02F 1/29, G03B 27/72, G03B 27/70, 359/290. Continuous direct-write optical lithography/W.D. Meisburger, filed of September 14, 2004, published of November 13, 2007.
- U.S. Patent 7,508,570 G02B 26/00, G02B 26/08, G02F 1/29, G03B 27/72, G03B 27/70, 359/290. Gray level method for slim-based optical lithography/W.D. Meisburger, filed of October 24, 2007, published of March 24, 2009.
- U.S. Patent 7,639,416 H01L 21/027, G02B 27/18, G02F 1/29, G02B 26/08, G03B 27/70, G03B 27/72, G03F 7/20, G02B 26/00, 359/290. Apparatus for SLM-based optical lithography with gray level capability/W.D. Meisburger, filed of October 24, 2007, published of December 29, 2009.
- Patent WO 2013185822 A1 G03F 7/20. Maskless lithographic apparatus and method for generating an exposure pattern/A. Bodemann, J. Hetzler, A. Göhnermeier, filed of June 14, 2012, published of December 19, 2013.
- Rajan, D.K. Novel method for intensity correction using a simple maskless lithography device/D.K. Rajan, J.P. Raunio, M.T. Karjalainen, T. Ryynänen, J. Lekkala//Sensors and Actuators A: Physical. -2013. -Vol. 194. -P. 40-46.
- MicroChemicals . -URL: http://www.microchemicals.eu (дата обращения 30.07.2016).
- TRDC. ООО «Троицкий инженерный центр» . -URL: http://troitskscientific.com/xws-65.html (дата обращения 30.07.2016).
