Развитие технологии получения и исследования пористого кремния

Бесплатный доступ

Работа представляет собой обзор исследований, проведенных в рамках Федеральной целевой программы «Интеграция науки и высшего образования России» студентами и аспирантами под совместным научным руководством преподавателей кафедры «Приборостроение и наноэлектроника» и сотрудников института физики СО РАН в области одного из актуальных технологических направлений микро- и наноэлектроники - развитии технологии получения пористого кремния. Цель данных исследований состоит в разработке кремниевых материалов и структур, обладающих новыми стабильными свойствами, которые в ближайшем будущем позволят значительно расширить диапазон параметров существующих устройств современной микроэлектроники и будут способствовать созданию оригинальных приборов.

пористый кремний \ кремниевые структуры \ кремниевые технологии \ микро- и наноэлектроника

Похожие статьи в разделе Электротехника

Разработка пористых структур на кремнии
Разработка пористых структур на кремнии

Сакун Е.А., Полюшкевич А.В., Харлашин П.А., Семенова О.В., Корец А.Я.

Расчет вероятности генерации поверхностных возбуждений электронами, отраженными от поверхности Si
Расчет вероятности генерации поверхностных возбуждений электронами, отраженными от поверхности Si

Игуменов Александр Юрьевич, Паршин Анатолий Сергеевич, Михлин Юрий Леонидович, Пчеляков Олег Петрович, Никифоров Александр Иванович, Тимофеев Вячеслав Алексеевич

Осаждение металлов в нанопоры кремния при формировании стоковой области силового транзистора
Осаждение металлов в нанопоры кремния при формировании стоковой области силового транзистора

Шахмаева Айшат Расуловна, Захарова Патимат Расуловна, Фейламазова Светлана Абдуллаевна

Короткий адрес: https://sciup.org/146114569

IDS: 146114569   |   УДК: 621.38

Development technology of creation and research porous silicon

Work represents the review of the researches spent within the limits of the Federal target program «Integration of a science and higher education of Russia» students and post-graduate students under a joint scientific management of teachers «Device designs and a nanoelectronics» department and employees of institute of physics of the Siberian Branch of the Russian Academy of Science in the field of actual technological directions micro- and nanoelectronics - development creation of porous silicon technology. The purpose of the given researches consists in working out of silicon materials and the structures possessing new stable properties which will allow to expand in the near future considerably a range of existing devices properties for modern microelectronics and which will promote creation of original devices.