Спектральный фильтр для установок проекционной нано-литографии нового поколения
Автор: Медведев В.В., Кривцун В.М.
Журнал: Труды Московского физико-технического института @trudy-mipt
Рубрика: Физика, электроника, нанотехнологии
Статья в выпуске: 2 (10) т.3, 2011 года.
Бесплатный доступ
Исследована возможность применения свободновисящих металлических сеточных фильтров для подавления рассеянного инфракрасного излучения в источниках EUV- излучения на основе лазерной плазмы. Методами численного моделирования были исследованы оптические характеристики фильтров.
Короткий адрес: https://sciup.org/142185748
IDR: 142185748
Список литературы Спектральный фильтр для установок проекционной нано-литографии нового поколения
- Fay B. Advanced optical lithography development, from UV to EUV//Microelectronic Engineering. -2002. -V. 61-62. -P. 11-24.
- Bakshi V. EUV Lithography. -New York: SPIE, 2009.
- Brandt D.C., Fomenkov I.V., Ershov A.I., Partlo W.N., Myers D.W., BЁowering N. R, Bykanov A. N, Vaschenko G.O., Khodykin O.V., Hoffman J.R., Vargas E., Simmons R.D., Chavez J.A., Chrobak C.P. LPP EUV Source Development for HVM//Proc. SPIE. -2007. -V. 6517. -P. 65170Q.
- Taflove A. The Finite-Difference Time-Domain Method//Advances in Computational Electrodynamics. -Boston: Artech House, 1998.
- Tikhodeev S.G., Yablonskii A.L., Muljarov E.A., Gippius N.A., Ishihara T. Quasiguided modes and optical properties of photonic crystal slabs//Phys. Rev. B. -2002. -V. 66. -P. 045102.
- Гиппиус Н.А., Тиходеев С.Г. Применение метода матрицы рассеяния для расчёта оптических свойств метаматериалов//УФН -2009. -Т. 179, № 9. -С. 1027-1030.
- Bauer L., Reiss E.L. Cutoff Wavenumbers and Modes of Hexagonal Waveguides//SIAM J. Appl. Math. -1978. -V. 35(3). -P. 508-514.
Статья научная
