Влияние литирования на проводимость анодного композита Si@O@Al

Рудый А.С. Курбатов С.В. Козлов Е.А.

Журнал: Международный журнал гуманитарных и естественных наук @intjournal

Рубрика: Физико-математические науки

Статья в выпуске: 9-2 (108), 2025 года.

Бесплатный доступ

Приведены результаты исследования проводимости анодного композитного материала Si@O@Al:Lix, где x=0 ат.%; 5 ат.% и 9 ат.%. На основании данных циклической вольтамперометрии и электрохимической импеданс-спектроскопии тестовых структур Ti|Si@O@Al:Lix|Ti показано, что при x=0 Si@O@Al:Lix вырожденный дырочный полупроводник. Нелинейность вольтамперной характеристики тестовой структуры свидетельствует о варисторном характере проводимости в объеме композита. При x=5 ат.% и 9 ат.% композит - скомпенсированный вырожденный электронный полупроводник, в котором варисторный эффект отсутствует. Отсутствие варисторного эффекта при x>0 объясняется появлением ионного перколяционного кластера, который шунтирует диспергатор электронного перколяционного кластера.

композит \ вырожденный полупроводник \ скомпенсированный полупроводник \ вольтамперная характеристика \ перколяционный кластер

Похожие статьи в разделе Электричество. Магнетизм. Электромагнетизм

Оптимальный состав пастовых композитных электродов на основе стеклоуглеродной матрицы и оксидов железа
Оптимальный состав пастовых композитных электродов на основе стеклоуглеродной матрицы и оксидов железа

Толстогузов Д.С., Штин С.В., Смолякова К.Р., Жанахова А.Н., Матвеев К.В., Хасанова Г.А., Дубинина Е.И., Некорыснова Н.С., Чернуха А.С., Бежин В.К., Паладий М.А., Тарасов А.М., Галимов Д.М., Жеребцов Д.А.

Короткий адрес: https://sciup.org/170211311

IDS: 170211311   |   DOI: 10.24412/2500-1000-2025-9-2-75-84

Effect of lithiation on the conductivity of the anodic composite Si@O@Al

The article presents the result of study on the anodic composite material Si@O@Al:Lix conductivity, where x=0 at.%; 5 at.% and 9 at.%. Based on the data of cyclic voltammetry and electrochemical impedance spectroscopy of the test structures Ti|Si@O@Al:Lix|Ti, it is shown that at x=0 Si@O@Al:Lix is a degenerate hole semiconductor. The nonlinearity of the current-voltage characteristic of the test structure indicates the varistor nature of conductivity in the bulk of the composite. At x=5 at.% and 9 at.%, the composite is a compensated degenerate electron semiconductor, in which the varistor effect is absent. The absence of the varistor effect at x>0 is explained by the appearance of an ionic percolation cluster, which shunts the dispersant of the electron percolation cluster.