Влияние мощности ультрафиолетового излучения на структурообразование оксигидроксида циркония

Автор: Авдин В.В., Куваева А.О., Жеребцов Д.А., Учаев Д.А.

Журнал: Вестник Южно-Уральского государственного университета. Серия: Химия @vestnik-susu-chemistry

Рубрика: Физическая химия

Статья в выпуске: 1 т.18, 2026 года.

Бесплатный доступ

Металлоксидные материалы, в том числе диоксид циркония, широко применяются в различных современных технологиях, так как обладают высокой прочностью, химической инертностью и термостабильностью. Для управления функциональными свойствами данных материалов необходимо знать закономерности роста их нано и микроструктур, влияние на структурообразование различных факторов. Основные подходы к управлению формированием структуры данных материалов заключаются в применении мощных воздействий – ультразвукового, СВЧ излучения, гидротермальной обработки. Однако на этапе зольгель синтеза даже слабые воздействия оказывают существенное влияние на ход процессов структурообразования и позволяют управлять формой, размером и дисперсией характеристик кристаллических структур. В данной работе исследовано влияние ультрафиолетового излучения (УФ) небольшой мощности (электрическая мощность облучателя – 15 и 30 Вт, освещѐнность в реакторе – 600 и 1200 Вт/м2 соответственно) на структурообразование оксигидроксида циркония, полученного зольгель методом при разных соотношениях скоростей образования (Vо) и роста (Vр) зародышей. Методами термического анализа (термогравиметрии и дифференциальной сканирующей калориметрии), рентгенофазового анализа, сканирующей и просвечивающей электронной микроскопии высокого разрешения установлено, что УФ облучение, в зависимости от уровня освещѐнности, оказывает разное воздействие на структурообразование оксигидроксида циркония. При Vo >> Vp основное действие УФ облучения заключается в формировании огранѐнных кристаллитов. При Vo Vp и Vo << Vp действие УФ облучения зависит создаваемой освещѐнности. Так, при мощности облучателя 15 Вт (освещѐнность в реакторе 600 Вт/м2) изменения в основном проявляются в повышении размера и качества огранки кристаллитов в облучѐнных образцах, особенно выраженном при Vo << Vp. При мощности облучателя 30 Вт (освещѐнность в реакторе 1200 Вт/м2) наблюдается формирование иерархически структурированных материалов.

Еще

Оксигидроксид циркония, структурообразование, влияние УФ излучения на структуру, длительность гидролиза, огранка кристаллитов, иерархическая структура

Короткий адрес: https://sciup.org/147253380

IDR: 147253380   |   УДК: 544.032.6; 544.023.55   |   DOI: 10.14529/chem260114

The influence of ultraviolet radiation power on the structure formation of zirconium oxyhydroxide

Metal oxide materials, including zirconium dioxide, are widely used in various modern tech-nologies due to their high strength, chemical inertness, and thermal stability. Regulating the functional properties of these materials requires understanding the growth patterns of their nano- and microstructures, as well as the influence of various factors on structure formation. The main approaches to controlling the structure formation of these materials involve the use of powerful irradiation techniques, such as ultrasound, microwave radiation, and hydrothermal treatment. However, during the sol-gel synthesis stage, even weaker irradiation techniques have a significant impact on the course of structure formation processes and allow controlling the shape, size, and dispersion of crystalline structure characteristics. In the present study the effect of low-power ultraviolet (UV) radiation (electric power values of an ir-radiator are 15 and 30 W, reactor irradiance values are 600 and 1200 W/m2, respectively) on the structure formation of zirconium oxyhydroxide obtained by the sol-gel method at different ratios of formation rates (Vо) and growth rates (Vр) for nuclei has been investigated. Using thermal analysis (thermogravimetry and differential scanning calorimetry), X-ray phase analysis, high-resolution scanning and transmission electron microscopy, it has been established that UV irradiation, depending on the created illumination, has different effects on structure formation of zirconium oxyhydroxide. At Vo >> Vp, the main influence of UV irradia-tion consists in formation of faceted crystallites. At Vo Vp and Vo << Vp, the influence of UV irradiation depends on the illumination created. Thus, at irradiator power of 15 W (illumination in the reactor is 600 W/m2), the changes primarily affect the size and faceting quality of crystallites in irradiated samples, espe-cially pronounced at Vo << Vp. At irradiator power of 30 W (illumination in the reactor is 1200 W/m2), the formation of hierarchically structured materials is observed.

Еще

Текст научной статьи Влияние мощности ультрафиолетового излучения на структурообразование оксигидроксида циркония

Металлоксидные соединения являются основой большинства современных функциональных материалов, используемых в качестве эффективных гетерогенных катализаторов, высокоселективных сорбентов, высокочувствительных сенсоров и полупроводниковых изделий. Диоксид циркония широко применяется как проводник ионов кислорода, отличающийся высокой термической стойкостью, механической прочностью и долговременной химической устойчивостью [1– 8]. В работах [9–13] показано, что незначительные по мощности воздействия излучения ультрафиолетового (УФ) и видимого диапазона изменяют направления структурообразования: наблюдается снижение дефектности и улучшение огранки кристаллитов, изменяется термическое поведение образцов, их сорбционные и структурно-морфологические характеристики. В работе [13] установлено, что действие излучения зависит от скорости гидролиза при проведении золь-гель синтеза, то есть от соотношения скорости образования новых зародышей (Vo) и скорости роста существующих (Vp) [14]. Наибольшее влияние УФ излучения достигается при низкой скорости гидролиза (при введении гидролитического агента в течение 24 ч), то есть когда Vp >> Vo. Энергия квантов УФ излучения соответствует энергии разрыва связей О–H [15], то есть возможен разрыв связей как внутри полимерных частиц, так и между ними, что изменяет направление структурообразования. Вероятно, при этом в большей степени подвержены разрушению структуры, имеющие дефекты, несовершенства в расположении структурных элементов [14]. В работе [13] облучённые оксигидроксиды циркония сравнивали с образцами, полученными без облучения, то есть в условиях стандартного освещения в лаборатории. Цель работы состояла в изучении влияния мощности источника УФ излучения и стандартного лабораторного освещения на процессы структурообразования оксигидроксидов циркония

В данной работе исследованы образцы оксигидроксида циркония, полученные при различном соотношении Vо и Vр (Vо >> Vр, Vо << Vр и Vо Vр) и различной мощности УФ излучения (мощность облучателя – 15 и 30 Вт, чему соответствует освещённость в реакторе 600 и 1200 Вт/м2). Для сравнения синтезировали образцы в таких же условиях в полной темноте (поместив реактор с мешалкой в светоизолированном коробе), а также провели сравнение с образцами, полученными ранее [13] в таких же условиях без облучения какими-либо источниками в условиях обычного освещения, мощность которого составляет менее 1 Вт/м2 [16].

Методами термического анализа (ТГ–ДСК) проанализировано термическое поведение образцов, методом рентгенофазового анализа (РФА) определены размеры областей когерентного рассеяния (ОКР) и изменение соотношения долей тетрагональной (Т) и моноклинной (М) фаз оксида циркония после прокаливания до 1000 ° С. При помощи сканирующей и просвечивающей электронной микроскопии высокого разрешения (СЭМ ВР и ПЭМ ВР) выявлены морфологические особенности кристаллитов оксида циркония, сформированных в разных условиях облучения и соотношения Vо и Vр.

Экспериментальная частьРеагенты

Оксихлорид циркония(IV) октогидрат (ZrOCl 2 ∙8H 2 O, ч.д.а., ООО «АО РЕАХИМ»), аммиак водный (25 %, х. ч., ООО «НеваРеактив») использованы без предварительной очистки.

Аналитические инструменты и методы

Навески брали на весах Sartorius серии СРА, 5 знак точности (0,01 мг). рН определяли иономером «Измерительная техника», рН-150МИ. Для синтеза использовали магнитную мешалку BIOSAN MSH-300, перистальтический насос Masterflex, 7518-00, вакуумный сушильный шкаф Binder VD 115 (8 мБар), центрифугу Hermle LaborTechnic Z383 (9000 об/мин).

Электронно-микроскопические исследования выполнили на сканирующем электронном микроскопе высокого разрешения (СЭМ ВР) Jeol JSM 7001F с ускоряющим напряжением 20 кВ и на просвечивающем электронном микроскопе высокого разрешения (ПЭМ ВР) Jeol JEM-2100 с ускоряющим напряжением 160 кВ. Электронную дифракцию осуществляли при длине дифракционной камеры (CL, camera length) 200…400 мм. Образцы перед исследованием прокаливали при температуре 1000 ° С, затем диспергировали в этаноле при помощи ультразвука в течение 1 ч.

Термическое поведение исследовали методами термогравиметрии (ТГ) и дифференциальной сканирующей калориметрии (ДСК) при скорости нагрева 10 K/мин в диапазоне комн. - 1000 ° С в атмосфере аргона (50 мл/мин), при предварительном трёхкратном вакуумировании (до 1 мбара) в печи термоанализатора с последующим заполнением пространства печи сухим аргоном. Использовали синхронный термический анализатор Netzsch STA 449 F3 Jupiter. Образцы помещали в корундовые микротигли (85 мкл) с крышечкой с газообменным отверстием. Кривую дифференциальной термогравиметрии (ДТГ) получили численным дифференцированием кривой ТГ в программе Netzsch Proteus V. 8.0.3. Для достоверного определения различий в термическом поведении по-разному облучённых образцов, для каждого из них термоаналитические кривые записали по 3 раза, затем усреднили. Кроме того, проверили воспроизводимость термоаналитических характеристик при одних и тех же условиях синтеза.

Рентгенофазовый анализ (РФА) порошков, прокалённых при температуре 1000 ° С проводили на дифрактометре Rigaku Ultima IV с излучением CuKa (1,5405952 А) в диапазоне 5-90 ° по 2 0 со скоростью сканирования 5 ° /мин (шаг - 0,02 ° ) при ускоряющем напряжении 40 кВ. По данным РФА при помощи уравнения Шеррера вычислили размеры областей когерентного рассеяния рентгеновских лучей (ОКР), а на основе базы данных ICDD-COD-Inorg Rev218120 2019.09.10 идентифицировали тетрагональную (Т) и моноклинную (М) фазы и вычислили их процентное соотношение.

Исследования методами ТГ–ДСК, РФА, СЭМ ВР и ПЭМ ВР провели на оборудовании научнообразовательного центра «Нанотехнологии» Южно-Уральского государственного университета.

Синтез образцов оксигидоксида циркония

В качестве исходной соли для синтеза использовали 0,1 М раствор оксихлорида циркония (концентрацию определили титрованием трилоном Б с индикатором ксиленоловым оранжевым). Гидролиз проводили золь-гель методом, вводя 0,1 М водный аммиак при помощи перистальтического насоса в течение 0,1; 1,0 и 24 ч до pH 9,5 по методике, изложенной в работе [17]. Выбор pH основан на данных работ [18, 19], согласно которым данный рН выше рН точки нулевого заряда оксигидроксида циркония и при данном значении оксигидроксиды обладают наименьшим разбросом размеров и формы частиц. Время гидролиза (tгидр) выбрали на основании предварительных экспериментов, по результатам которых установили, что достоверные изменения характеристик оксигидроксидов циркония (по данным термического и рентгенофазового анализа), превы- шающие погрешность определения, наблюдаются при времени гидролиза менее 10 минут, в интервале 0,5…1,5 ч и более 15 ч. Время гидролиза 0,1 ч, по-видимому соответствует условиям Vo >> Vp, 24 ч - Vp >> Vo, а 1 ч - Vp » Vo [14].

В процессе введения гидролитического агента образцы облучали УФ. В качестве источника УФ использовали облучатель оригинальной конструкции, состоящий из 30 трёхваттных светодиодов, закреплённых на радиаторах с вентиляторами (рис. 1). Длина волны излучения светодиодов – 395 нм, электрическая мощность, на которой работал УФ-облучатель, составила 15 и 30 Вт. Освещённость в реакторе, измеренная методом актинометрии [20, 21] составила около 600 и 1200 Вт/м2 соответственно. Облучение при мощности источника 15 Вт обозначили УФ1, 30 Вт – УФ2. Внутрь облучателя помещали кварцевый стакан ёмкостью 100 мл в качестве реактора. Общий вид установки для синтеза показан на рис. 1. В качестве образцов сравнения в аналогичных условиях проводили синтез в темноте (реактор с мешалкой помещали внутрь светоизолированного короба). Таким образом получили образцы в 9 наборах условий, в каждом из которых осуществили по 3 синтеза. Кроме то, полученные результаты сравнили с образцами, синтезированными ранее [13] в таких же условиях без облучения и без светоизоляции. Все образцы после созревания геля декантировали и шестикратно отмывали дистиллированной водой (до отсутствия в промывных водах противоионов исходных солей), после чего сушили на воздухе до воздушно-сухого состояния (около 1 мес.) и затем в течение недели сушили в вакуумном сушильном шкафу при температуре 50 °С и давлении 8 мбар. Перед исследованиями образцы тщательно перетирали в агатовой ступке.

Рис. 1. Установка для золь-гель синтеза образцов с УФ облучением

Результаты и обсуждение

Как известно [22–25] термическое разложение оксигидроксидов циркония протекает в три стадии. На первой (комн. - 350 ° С) удаляется физически связанная вода (поровая, адсорбированная, гидратная) и частично химически связанная вода (находящаяся в виде концевых и мостиковых ОН-групп), оксигидроксид циркония при этом превращается в диоксид с небольшим содержанием межслоевой и внутримицеллярной воды. На второй стадии (340-500 ° С) происходит превращение аморфного диоксида циркония в кристаллический в тетрагональной фазе, и на третьей (480…500 –1000 °С) – тетрагональный ZrO 2 переходит в моноклинный. Удаление межслоевой и внутримицеллярной воды завершаются на второй и третьей стадиях, что видно по масс-спектру в режиме сканирования для 18 м. ч. [13].

В упомянутой работе отмечено, что при тщательном соблюдении всех параметров синтеза (концентрация реагентов, температура, t гидр , условия облучения и условия сушки) воспроизводимость всех измеренных характеристик оксигидроксида циркония довольно высока – разброс данных, полученных для образцов, синтезированных в одинаковых условиях, методами термического и рентгенофазового анализа, сопоставим с разбросом, полученным для одного и того же образца при повторных записях кривых ТГ–ДСК и РФА.

На рис. 2 представлены термоаналитические кривые образцов, полученных при разном облучении и с разным tгидр. Для сравнения приведены кривые образцов, синтезированных без облучения, в условиях естественного освещения в лаборатории [13]. Как видно из приведённых данных облучение значительно влияет на термическое поведение оксигидроксида циркония при всех соотношениях Vo и Vp. Отметим, что наличие некоторой освещённости, соответствующей типичным условиям работы в лаборатории (не более 1 Вт/м2, согласно [16]) уже оказывают существен- ное воздействие на термическое поведение образцов в сравнении с полным отсутствием облучения.

Облучение приводит к изменению профиля термоаналитических кривых и изменению температуры термолитических процессов. Температуры экстремумов на кривых ДСК и ДТГ представлены в табл. 1. При быстром гидролизе (0,1 ч), когда Vo >> Vp, влияние облучения незначительно, но синтез в полной темноте приводит к заметному изменению профиля кривой ДСК на второй стадии термолиза (ДСК (2)) в области кристаллизации аморфного диоксида циркония в кристаллический (в тетрагональной фазе) [13]. Максимум ДСК (2) уширяется и уменьшается по амплитуде.

С увеличением tгидр до 1 ч амплитуда пика ДСК (2) существенно снижается, пик уширяется. У образцов, синтезированных в темноте, уширение данного пика наиболее заметно, кроме того на нём появляется удвоение. При t гидр = 24 ч у образцов, полученных при всех видах облучения, пики ДСК (2) более чем в 2 раза уменьшаются по амплитуде и значительно уширяются, на них появляется утроение. Возможно, такое усложнение пиков кристаллизации обусловлено формированием нескольких типов кристаллитов, различающихся размерами или строением. Наибольшие изменения термического поведения образцов, полученных при t гидр = 24 ч, наблюдаются на кривой ДТГ в виде значительного увеличения пика ДТГ (2), соответствующего удалению межслоевой и внутримицеллярной воды (за исключением образцов, полученных в условиях стандартного освещения). Данный пик остаётся унимодальным, причём температура максимума ниже, чем температура максимума ДСК (2) в данной области (рис. 2, табл. 1). Перечисленные факты свидетельствуют о том, что удаление межслоевой воды не связано непосредственно с кристаллизацией – перед кристаллизацией происходит перестройка структуры и межслоевая вода получает возможность покинуть образец, тогда как процессы кристаллизации протекают от дегидратации не зависят. Поэтому появление мультимодальности экзоэффектов на кривых ДСК, по-видимому, связано с образованием в данных образцах кристаллитов различного размера.

ТГ, % 100

-0.6

-0.8

-1.4

0.8

0.6

0.4

-1.0 0.2

-1.2 0.0

-0.2

0.0

1.4

-0.2 1.2

-0.4 1.0

0  100 200 300 400 500 600 700 800 900 1000   -0.6

Т, °С

а)

ТГ, % 100

ДТГ, %/мин. ДСК, Вт/г

ТГ, % 100

-0.4

ДТГ, %/мин. ДСК, Вт/г 0.0

1.4

-0.2 1.2

-0.4 1.0

-0.6

-0.8

0.8

0.6

0.4

-1.0 0.2

-1.2 0.0

-1.4

0  100 200 300 400 500 600 700 800 900 1000

Т, °С

-0.2

-0.4

-0.6

б)

ДТГ, %/мин. ДСК, Вт/г 0.0

1.4

-0.2 1.2

-0.4 1.0

-0.6

-0.8

0.8 >

0.6

0.4

-1.0 0.2

-1.2 0.0

-0.2

-1.4

-0.4

J -0.6

0   100 200 300 400 500 600 700 800 900 1000   - .

Т, °С

в)

Рис. 2. Кривые термического анализа (ТГ, ДТГ и ДСК) для образцов, по-разному облучённых при синтезе, полученных при t гидр 0,1 (а), 1,0 (б) и 24 ч (в)

Таблица 1

Температуры максимумов на кривых ДСК и ДТГ, образцов, полученных в разных условиях

t гидр , ч

Тип максимума

Тип облучения

Темнота

УФ 1

УФ 2

Без облучения

0,1

ДСК (1), ° С

158,0

140,3

166,8

141,5

ДСК (2), ° С

452,4

452,4

455,6

456,6

ДТГ (1), ° С

155,1

140,7

163,7

135,3

ДТГ (2), ° С

447,9

441,6

451,1

445,7

1

ДСК (1), ° С

161,4

142,9

161,7

147,1

ДСК (2), ° С

412,5

454,8

447,4

446,1

ДТГ (1), ° С

159,7

143,6

158,9

146,0

ДТГ (2), ° С

404,1

445,3

444,7

439,3

24

ДСК (1), ° С

166,4

146,1

166,5

146,7

ДСК (2), ° С

405,6

391,1

406,9

442,5

ДТГ (1), ° С

164,2

145,9

163,5

145,3

ДТГ (2), ° С

378,0

385,0

375,5

441,7

Облучение ультрафиолетом и рост tгидр способствуют появлению на кривых ДСК ещё одного экзоэффекта в области 550^600 ° С, соответствующего переходу тетрагональной кристаллической фазы в моноклинную. Если данный эффект не наблюдается на кривых ДСК, такой переход в любом случае протекает, но в большом интервале температур, то есть он как бы растягивается по абсциссе [13], по-видимому, вследствие дисперсии кристаллитов по размерам. Проявление выраженного второго экзоэффекта позволяет предположить, что происходит снижение дисперсии размеров кристаллизующихся частиц. В наибольшей степени второй экзоэффект на кривых ДСК заметен для образцов, облучённых УФ 1, а также для оксигидроксидов, синтезированных в условиях стандартного освещения.

Из других особенностей термоаналитических кривых следует отметить, что наиболее близки профили и количественные показатели образцов, полученных в темноте и при облучении УФ 2, особенно при t гидр = 24 ч.

На рис. 3 представлены дифрактограммы образцов, прокалённых при температуре 1000 ° С, синтезированных в разных условиях облучения. В табл. 2 приведены вычисленные по данным РФА доли (в процентах) тетрагональной (Т) и моноклинной (М) фаз, а также размеры ОКР.

Таблица 2

Данные, вычисленные из рентгеновских дифрактограмм

гидр , ч

М/Т и ОКР, нм

Тип облучения

Темнота

УФ 1

УФ 2

Без облучения

0,1

Т, %

2,62

10,30

1,99

8,30

М, %

97,38

89,70

98,01

91,70

ОКР

18,25

20,81

17,80

15,92

1

Т, %

6,60

1,55

4,00

20,70

М, %

93,40

98,45

96,00

79,30

ОКР

19,38

22,50

18,25

15,55

24

Т, %

8,80

2,10

10,00

21,60

М, %

91,20

97,90

90,00

78,40

ОКР

19,93

24,85

20,70

17,05

Интенсивность, cps

Интенсивность, cps

М

М

М

0 20000

0 20000

Т,М

ТМ,Т ММ М Т,ММ Т,М

темнота

УФ 1

УФ 2

20 М

0 20000

М

М Т

М

М,Т

М,Т ММ

М,Т

М   М М,Т

20   30   40   50   60   70   80   90

М

М

М,Т

30   40   50   60   70   80

0 20000

М

М

Т,М

20 М

М

М

30   40   50   60   70   80

а)

10   20   30   40   50   60   70   80   90

2 0 , °

М

М

М

30   40   50   60   70   80   90

б)

30   40   50   60   70   80   90

2 0 , °

10   20

Интенсивность, cps

М

М Т

М,Т

0 20000

0 20000

М М,Т ММ М М,ТМ Т,М

М

20   30   40   50   60   70   80   90

М

М

М

М

20   30   40   50   60   70   80   90

М

М

М

М

М

Т

10   20   30   40   50   60   70   80   90

2 0 , °

в)

Рис. 3. Дифрактограммы образцов, полученных при t гидр 0,1 (а), 1,0 (б) и 24 ч (в) в разных условиях облучения

Средний размер ОКР с увеличением t гидр монотонно растёт, что закономерно обусловлено возрастающим преобладанием Vp над Vо. Самым большим размером ОКР обладают образцы, полученные при облучении УФ 1, а самым маленьким – облучённые УФ 2. Доли моноклинной и тетрагональной фаз характеризуют близость образцов к термодинамической стабильности. Так как для данных условий термодинамически стабильной является М-фаза, рост её доли свидетельствует о повышении упорядоченности. Максимальной долей М-фазы обладают образцы, облучённые УФ 1 (за исключением t гидр = 0,1 ч), а минимальной – полученные в темноте и в условиях обычного освещения.

Анализ данных рентгеновской дифракции показывает, что увеличение мощности УФ облучения не однозначно отражается на изменениях свойств образцов. При любых соотношениях Vо и Vр облучение УФ 1 повышает средний размер ОКР (по сравнению с синтезом в темноте), а удвоенная мощность воздействия УФ 2, напротив, снижает до аналогичных или даже меньших значений. Доля М-фазы при облучении УФ 1 достигает максимума при Vp ® Vo и Vp >> Vo (tги д p 1,0 и 24 ч соответственно). Образцы, синтезированные при облучении УФ 2 , характеризуются содержанием М-фазы, которое сопоставимо с образцами, полученными в темноте, либо значительно меньше, чем при прочих условиях облучения.

Анализ морфологии образцов по данным СЭМ ВР показывает, что при синтезе в темноте образцы состоят из слоистых частиц (рис. 4а). Облучение при синтезе УФ, не зависимо от мощности источника приводит к формированию более крупных, но рыхлых образований (рис. 4б).

а)                                                         б)

Рис. 4. СЭМ-изображения образцов, полученных без облучения (а) и при облучении УФ 1 (б)

Исследование образцов при помощи ПЭМ ВР подтверждает сформулированное выше предположение о формировании с ростом t гидр кристаллитов разных размеров. В темноте при Vо >> Vр (tгидр = 0,1 ч) ОКР не имеют чёткой огранки, она появляется только при Vо Vр и в наибольшей степени наблюдается при Vр >> Vо (t гидр = 24 ч). При облучении как УФ 1, так и УФ 2 хорошо огранённые кристаллиты наблюдаются уже при Vо >> Vр. На рис. 5 представлены микрофотографии, сделанные методом ПЭМ ВР образцов, синтезированных при t гидр = 0,1 ч в темноте (рис. 5а) и при облучении УФ 1 (рис. 5б). При сопоставимом соотношении Vо и Vр (t гидр = 1,0 ч) эффект «структурирования» (повышение огранки кристаллов) возрастает, особенно в образцах, облучённых УФ 1.

а)                                                         б)

Рис. 5. ПЭМ-изображения образцов, полученных при t гидр = 0,1 ч в темноте (а) и при облучении УФ 1 (б)

При Vр >> Vо (t гидр = 24 ч) облучение при синтезе УФ приводит к возникновению иерархических структур: наночастицы размером около 4 нм формируют агрегаты размером около 16 нм, а те, в свою очередь, объединяются в образования около 100 нм. В наибольшей степени данный эффект заметен при облучении УФ 2. На рис. 6 показаны микрофотографии, сделанные при помощи ПЭМ ВР образцов, синтезированных при t гидр = 24 ч в темноте (рис. 6а) и при облучении УФ 2 (рис. 6б). Таким образом, облучение при синтезе УФ 1 повышает огранку кристаллитов, а облучение УФ 2 способствует формированию иерархических структур.

а)

б)

Рис. 6. ПЭМ-изображения образцов, полученных t гидр = 24 ч в темноте (а) и при облучении УФ 2 (б)

Заключение

Электромагнитное излучение оказывает существенное влияние на структурообразование оксигидроксида циркония. Образцы, синтезированные при стандартной освещённости в лаборатории (менее 1 Вт/м2), имеют заметные отличия в физико-химических свойствах от образцов, полученных в темноте. При использовании более мощных источников облучения (с освещённостью в реакторе 600 и 1200 Вт/м2) наблюдаются эффекты, проявляющиеся в значительных изменениях физико-химических характеристик. Существенно меняется термическое поведение, в частности температуры процессов термической деструкции и фазовых переходов при превращении аморфного ZrO 2 в кристаллический смещаются на 15-30 ° С, усложняются профили кривых ДСК и ДТГ, изменяются размеры областей когерентного рассеяния, соотношение кристаллических фаз (после прокаливания до 1000 ° С), улучшается огранка кристаллитов.

При проведении гидролиза за короткое время (0,1 ч), когда скорость образования зародышей (Vo) значительно выше скорости из роста (Vp), роль излучения, при освещённости как 600, так и 1200 Вт/м2 преимущественно проявляется в «структурировании» оксигидроксидных частиц – кристаллиты приобретают огранку. Вероятно, ультрафиолет инициирует деструкцию растущих частиц, содержащих структурные дефекты или обладающих неоптимальным расположением структурных элементов. При повышении мощности излучения не наблюдается кратное изменение физико-химических характеристик образцов. С увеличением времени гидролиза до 1,0 и 24 ч облучение УФ с освещённостью 600 Вт/м2 в основном влияет на огранку кристаллитов, а с освещённостью 1200 Вт/м2 способствует возникновению иерархически структурированных материалов.