Влияние отжига на поведение кислорода в монокристаллах германия

Автор: Шиманский А.Ф., Подкопаев О.И., Городищева А.Н., Павлюк Т.О., Филатов Р.А.

Журнал: Сибирский аэрокосмический журнал @vestnik-sibsau

Рубрика: Технологические процессы и материалы

Статья в выпуске: 2 т.17, 2016 года.

Бесплатный доступ

Производство полупроводникового германия вносит вклад в развитие аэрокосмического приборостроения. Бездислокационные монокристаллы германия используются для создания эффективных фотопреобразователей космического базирования. Кристаллы с предельно низким содержанием примесей и дефектов находят применение для изготовления цифровых устройств в распределенных системах электропитания бортовой аппаратуры ракетно-космической техники. Одной из основных примесей в германии, определяющей структурное совершенство и свойства монокристаллов, является кислород. Предметом настоящей работы является анализ влияния отжига кристаллов германия на поведение растворенного в них кислорода. Исследование примеси кислорода в монокристаллах проведено методом ИК-спектрометрии. По величине оптической плотности в максимуме полосы поглощения в ИК-спектре на волновом числе 843,0 см-1 определена концентрация кислорода в кристаллах Ge, которая изменяется от 0,2·1016 до 1,3·1016 см-3 в зависимости от их качества. Изучено влияние отжига в интервале температуры 350-450 °С на поведение растворенного в германии кислорода. Установлено, что после отжига в среде с парциальным давлением кислорода (РO2) от 103 до 1 Па увеличивается его концентрация в кристаллах, и максимум кислородной полосы смещается с волнового числа 843 на 856 см-1. Отжиг при более низком РO2 приводит к уменьшению интенсивности кислородной полосы 843 см-1 вследствие образования термодоноров на основе растворенного междоузельного кислорода. Результаты проведенных исследований могут быть использованы в технологии полупроводникового германия для получения монокристаллов с заранее заданными содержанием, формой присутствия кислорода и контролируемыми посредством этого свойствами.

Еще

Монокристаллический германий, примеси, кислород, ик-спектрометрия, волновое число, отжиг, термодоноры

Короткий адрес: https://sciup.org/148177588

IDR: 148177588

Текст научной статьи Влияние отжига на поведение кислорода в монокристаллах германия

Введение. Область использования германия включает волоконно-оптические линии связи, полупроводниковые детекторы, инфракрасную аппаратуру и тепловизоры, катализаторы, люминофоры, медицинские и фармацевтические препараты. К наиболее наукоемким и высокотехнологичным промышленным секторам, потребляющим монокристаллический германий, принадлежит аэрокосмическая техника, где данный материал используется для создания солнечных батарей и почти вдвое превосходит своего главного конкурента - кремний по показателю эффективности преобразования солнечной энергии в электрическую, достигающему ~ 40 % [1-5].

В солнечных батареях Ge используется в качестве подложек для эпитаксиальных структур типа GaInP/GaInAs/Ge, являющихся основой фотопреобразователей. Для их изготовления требуются бездисло-кационные кристаллы с низким содержанием примесей, так как наличие дислокаций и неконтролируемых примесей приводит к несоответствию параметров кристаллических решеток Ge и соединений АШВУ, препятствуя росту высококачественных эпитаксиальных слоев на германиевой подложке [1; 3; 4].

Бездислокационный высокочистый германий обеспечивает также решение проблем, возникающих в связи с использованием кремния при создании радиационно стойких силовых MOSFET-транзисторов, которые применяют в источниках питания, преобразователях напряжения, блоках управления приводом и другой электронной технике в космической аппаратуре. Высокая подвижность носителей заряда в без-дислокационном германии, достигающая 1000 ем2/В-с, что в 2 раза выше, чем в Si, позволяет с большим успехом использовать его для создания быстродействующих цифровых устройств космического класса [6].

В настоящее время большое внимание уделяется вопросам обеспечения качества и надежности ракетно-космической техники. Перед разработчиками стоит задача по увеличению сроков активного существования аппаратуры до 10-12 лет при ее размещении на открытой платформе космического аппарата. Эта тенденция приводит к тому, что проблема радиационной стойкости электронных устройств выходит на первый план. Причиной их выхода из строя под действием ионизирующих излучений является безызлучательная рекомбинация как следствие присутствия в кристаллической решетке различных дефектов, прежде всего, атомов примесей и дислокаций. Дефекты в облученном кремнии оказываются на порядок активнее, чем в германии, потому по радиационной стойкости германий также превосходит кремний [7; 8].

Современными исследованиями доказано, что кислород является одной из основных примесей, определяющих структурное совершенство и свойства монокристаллов германия, а также эксплуатационные характеристики приборов на его основе [4; 5; 9; 10].

В монокристаллическом германии растворенные атомы кислорода занимают междоузельные позиции O i , образуя квазимолекулу Ge-O-Ge, имеющую ряд собственных частот колебаний v 1 , v2 и v3. В связи с этим концентрация кислорода в кристаллах германия, как правило, определяется по интенсивности ИК-поглощения в максимуме полосы на волновом числе V , равном 856 ем-1, которое отождествляется е антисимметричными колебаниями v3 [4; 11; 12].

Известно также, что кислород может находиться не только в атомарной форме, но также присутствовать в химически связанном состоянии в виде преципитатов GeOx, которые образуются либо в процессе выращивания слитка, либо при распаде пересыщенного твердого раствора кислорода в германии в течение постростового отжига и охлаждения. Содержание кислорода в составе преципитатов может доходить до 20 % от общей его концентрации [12-15]. В работах [12-15] отмечается также, что термический отжиг германия при температурах от 350 до 450 °С приводит к образованию преципитатов особого рода, обладающих электрической активностью, - термодоноров (ТД) на основе междоузельного кислорода. Большинство современных моделей термодоноров базируются на представлении этих центров в виде комплексов, состоящих из электрически активного ядра с разным числом присоединенных к нему атомов кислорода.

Следует заметить, что концентрация кислорода в кристаллах, исследуемых во всех цитируемых выше работах [4; 11-15], составляла ~1017 ем-3 и более. Таким образом, германий в достаточной степени был обогащен кислородом.

В связи с этим настоящая работа направлена на исследование кристаллов с более низким содержанием кислорода, порядка 1,0-1016 см-3, изучение влияния отжига в интервале температуры 350-450 °C на поведение кислорода и форму его присутствия в германии для понимания динамики изменения его свойств в зависимости от парциального давления кислорода в газовой фазе.

Методика эксперимента. Для экспериментального исследования растворенного в Ge кислорода применяли метод ИК-Фурье-спектрометрии. Регистрацию ИК-спектров в диапазоне 600-1000 см 1 производили путем сканирования образца в диапазоне волновых чисел от 600 до 4000 см-1 с помощью ИК-Фурье-спектрометра SPECTRUM BXII. Концентрацию кислорода [ОД в образце определяли по величине оптической плотности D на волновом числе 843 см 1 относительно базовой линии по формуле

[ OJ - 1,05 х10 17 ^- d -J , (1)

где D - оптическая плотность относительно базовой линии, соответствующая полосе 843 см 1; d - толщина образца; 1,05 х 1017 см-- - градуировочный коэффициент [4]. Погрешность измерений не превышает - %.

Для проведения исследований при нагревании образцов до 80 °C использовали модернизированную приставку Transmission E.S.P. с размещенным на ее базе нагревателем. В низкотемпературной области от --67 до -3 °C оптическое пропускание измеряли на спектрометре Vertex 80v с использованием гелиевого термостата.

Исследования проводили на монокристаллах германия марок OCЧ (особо чистый), ГМО (германий монокристаллический оптический) и бездислокаци-онных кристаллах. Выращивание кристаллов осуществляли в кристаллографическом направлении [111] в среде аргона на предприятии АО «Германий» (г. Красноярск) по методу Чохральского. Экспери ментальные образцы имели форму цилиндра диаметром -5 мм и толщиной 10 мм.

Обсуждение результатов. На рис. 1 приведены спектры поглощения инфракрасного излучения монокристалла германия марки ГМО с удельным электрическим сопротивлением 5 Ом^см, снятые в интервале температуры от комнатной до 80 °C.

В диапазоне волновых чисел от 800 до 900 см-1 в приведенных спектрах наблюдается лишь одна полоса на волновом числе 843 см-1. C возрастанием температуры до 80 °C волновое число снижается до 837 см-1. На рис. - приведен спектр пропускания кристалла ГМО при --67 °C. Наблюдается смещение полосы с волнового числа 843 см-1 на 851,5 см-1.

Установлено, что спектры всех других исследуемых монокристаллов подобны и различаются лишь интенсивностями. Полоса на волновом числе 843 см-1 при комнатной температуре, приведенная на рис. 3, интерпретируется нами как кислородная [16].

По величине оптической плотности в максимуме полосы 843 см-1 относительно базовой линии определена концентрация кислорода в исследуемых кристаллах германия. Установлено, что она изменяется от 0,-0Ч016 до 1,30^10 16 см 3. Минимальное содержание O i выявлено в бездислокационных кристаллах. Максимальное - в поликристаллических областях слитков ГМО.

Установленный нами экспериментальный факт, согласно которому поглощению ИК-излучения растворенным в германии кислородом при содержании O i , равном ~1016 см 3, отвечает пик на волновом числе 843 см-1, с учетом результатов исследований, приведенных в работах [11; 1-], позволяет выдвинуть следующую гипотезу: положение максимума полосы поглощения в ИК-спектре германия, отвечающей колебаниям атомов кислорода, может изменяться от 843 до 856 см-1 в зависимости от их содержания в кристалле.

Рис. 1. ИК-спектры поглощения монокристалла германия:

1 - -3 °C; - - 40 °C; 3 - 60 °C; 4 - 80 °C

Рис. 2. ИК-спектры пропускания монокристалла германия: 1 - -267 °C; 2 - 23 °C

Рис. 3. ИК-спектр поглощения германия в интервале волновых чисел 800-900 см-1

Подтверждением данной гипотезы являются результаты исследования влияния диффузионного отжига кристалла Ge в газовой среде, содержащей остаточный кислород, в диапазоне Р 0 от 10-3 до 103 Па, в интервале температуры 350-450 °C в течение времени от 2 до 90 ч с промежуточной регистрацией ИК-спектров.

Установлено, что после проведения отжига при 1 <  Р 0< 10 3 Пав течение 4 ч происходит увеличение интенсивности пика на волновом числе 843 см-1, при этом концентрация кислорода возрастает от ~1,10^1016 до 1,30•1016 см-3. Отжиг продолжительностью от 6 до 8 ч приводит к еще большему увеличению концентрации кислорода в кристалле до 5,0•1016 см-3, которое сопровождается появлением новой полосы на волновом числе 856 см-1, также отвечающей колебаниям междоузельного кислорода. На рис. 4 представлены ИК-спектры германия после отжига при Р 02 = 103 Па и температуре 400 °C.

Таким образом, отжиг при температуре 400 °C в интервале парциального давления кислорода от 1

до 103 Па приводит к увеличению содержания кислорода в германии, при этом наряду с полосой 843 см-1 появляется новая полоса поглощения на волновом числе 856 см-1 с нарастающей интенсивностью.

Экспериментально доказано, что термообработка при более низком парциальном давлении кислорода 1 МПа >  Р 02 приводит к уменьшению интенсивности полосы 843 см-1, что отвечает снижению содержания междоузельного атомарного кислорода. Рис. 5 иллюстрирует влияние отжига в течение 90 ч при Р 02 = 10 3 Па в среде криптона марки 6N (производитель 000 «Хром») на изменение интенсивности кислородной полосы в спектре поглощения германия. Из приведенных на рис. 5 данных следует, что величина оптической плотности в максимуме полосы 843 см-1 относительно базовой линии уменьшается от 4,6Н0-2 до 4,0Ю-2. Cоответственно, содержание атомов кислорода в междо-узельных позициях [O i ], рассчитанное по формуле (1), до отжига составляло 1,10-1016 см-3, после отжига -0,95-1016 см-3.

Рис. 4. Трансформация спектра поглощения германия в интервале волновых чисел 800-920 см-1 под влиянием отжига при температуре 400 °C в среде с РO^ = 10 3 : 1 - 6 ч; 2 - 8 ч

Рис. 5. Изменение интенсивности кислородной полосы в спектре поглощения германия после отжига при температуре 400 °C: 1 - до отжига;

2 - после отжига; 3 - базовые линии

Наблюдаемое явление по аналогии с работами [17; 18] можно объяснить образованием термодоноров на основе растворенного кислорода в кристаллической решетке германия в ходе отжига. Таким образом, часть диспергированного по междоузлиям кислорода, в данном случае ~ 15 %, под влиянием отжига переходит в связанное состояние в структуре ТД.

Заключение. Отжиг кристаллов германия в среде с остаточным давлением кислорода 10-3 Р О< 103 Па в интервале температуры 350-450 °C приводит к изменению концентрации и формы присутствия растворенного в них кислорода. После отжига в среде с парциальным давлением кислорода от 103 до 1 Па увеличивается его концентрация в кристаллах. Возрастание концентрации кислорода в интервале от 1016 до 1017 см-3 приводит к смещению полосы поглощения с 843 на 856 см-1.

Термообработка кристаллов с содержанием кислорода ~1016 см-3 при 10-3 Р О< 1 Па приводит к уменьшению интенсивности кислородной полосы 843 см-1 вследствие образования термодоноров на основе растворенного междоузельного кислорода.

Список литературы Влияние отжига на поведение кислорода в монокристаллах германия

  • Dimroth F., Kurtz S. High-efficiency multijunction solar cells//MRS bulletin. 2007. Vol. 32, No 03. P. 230-235 DOI: 10.1557/mrs2007.27
  • Наумов А. В. Мировой рынок германия и его перспективы. Восставший из праха//Известия вузов. Цветная металлургия. 2007. № 4. С. 32-40.
  • Luque A., Hegedus S. (ed.). Handbook of photovoltaic science and engineering. John Wiley & Sons, 2003. 1168 р.
  • Claeys L., Simoen E. Germanium-based technologies: from materials to devices. Elsevier, Oxford, 2007. 449 p.
  • Depuydt B., Theuwis A., Romandic I. Germanium: from the first application of Czochralski crystal growth to large diameter dislocation-free wafers//Materials Science in Semiconductor Processing. 2006. Vol. 9, No 4. P. 437-443 DOI: 10.1016/j.mssp.2006.08.002
  • Chroneos A., Vovk R. V. Oxygen diffusion in germanium: interconnecting point defect parameters with bulk properties//Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 2015. Vol. 26, No 10. P. 7378-7380 DOI: 10.1007/s10854-015-3367-7
  • Жданкин В. К. Радиационно стойкие низковольтные DC/DC-преобразователи для распределенных систем электропитания ракетно-космической техники//Компоненты и технологии. 2011. Т. 7, № 120. С. 139-136.
  • Радиационная стойкость материалов. Справочник/под общ. ред. В. Б. Дубровского. М.: Атомиздат, 1973.
  • Taishi T., Ohno Y., Yonenaga I. Reduction of grown-in dislocation density in Ge Czochralski-grown from the B2O3-partially-covered melt//Journal of Crystal Growth. 2009. Vol. 311, iss. 22. P. 4615-4618 DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2009.09.001
  • Кирьянова Т. В., Рябец А. Н., Левинзон Д. И. Свойства кислородсодержащего германия, легированного редкоземельными элементами//Складнiсистеми i процеси. 2003. № 2. С. 12-17.
  • Pajot B., Clauws P. High resolution local mode spectroscopy of oxygen in germanium//The Proceedings of the 18th International Conference on the Physics of Semiconductors. 1987. Vol. 2. P. 911-914.
  • Clauws P. Oxygen related defects in germanium//Materials Science and Engineering: B. 1996. Vol. 36. No 1. P. 213-220 DOI: 10.1016/0921-5107(95)01255-9
  • Complexes of self-interstitial with oxygen atoms of germanium/L. I. Khirunenko, //Materials science in semiconductor processing. 2008. Vol. 11. P. 344-347 DOI: 10.1016/j.mssp.2008.07.007
  • Cryse O., Vanhellomont J., Clawus P. Determination of oxide precipitated phase and morphology in silicon and germanium using infra-red absorption spectroscopy//Materials science in semiconductor processing. 2006. Vol. 9. P. 246-251.
  • Metastable thermal donor states in germanium: Identification by electron paramagnetic resonance/H. H. P. Th. Bekman //Physical Review B. 1990. Vol. 42. P. 9802. Doi: http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.42.9802.
  • Shimanskii A. F., Podkopaev O. I., Baranov V. N. Oxygen impurity in germanium single crystals determination by infrared spectrometry//Advanced materials research. 2015. Vol. 1101. P. 115-119 DOI: 10.4028/www.scientific.net/AMR.1101.115
  • Formation of Thermal Double Donors in Ge/K. Inoue //Proceedings of the 12th Asia Pacific Physics Conference -2014. JPS Conference Proceedings. 2014. Vol. 1, No 1. P. 2082. Doi: http://dx.doi.org/10.7566/JPSCP.1.012082.
  • Pajot B., Clerjaud B. Optical absorption of impurities and defects in semiconducting crystals electronic absorption of deep centres and vibrational spectra. Berlin: Springer, 2013. 510 p.
Еще
Статья научная