Влияние параметров магнетронного распыления на свойства и структуру оксидных покрытий для гелиоустановок и приборов в Апк

Электрификация технологических процессов в АПК существенно расширяет возможности роста производства, сохранности и качества продукции, а также способствует улучшению условий труда и экологической обстановки. Решение этих задач почти всегда требует значительного роста энергопотребления. Применение для этих целей в АПК гелиоустановок связано с проблемами повышения КПД и с факторами, возникающими при негативных воздействиях на них внешней среды и времени. Для снижения влияния этих факторов на оптические поверхности гелиоустановок и приборов наносятся защитные, просветляющие и проводящие покрытия на основе оксидов различных металлов. Метод магнетронного распыления твёрдофазных мишеней является наиболее перспективным среди плазмохимических методов для их получения. В связи с этим весьма актуальными являются исследования зависимости свойств и структуры покрытий от их технологических параметров магнетронного распыления. Установлено, что изменением давления аргона, мощности разряда и температуры осаждения можно получить оксидные покрытия со слоевым сопротивлением 10-5 Ом/м2 с коэффициентом пропускания в видимой области 88-93%. Показано, что комбинированным изменением температуры и мощности можно изменять их текстуру и регулировать размеры блоков кристаллов от 0,01 до 0,2 мкм. Линейная зависимость скорости осаждения от мощности разряда позволяет получать покрытия заданной толщины с точностью ±5 нм. Анализ их электрооптических свойств показал перспективность применения магнетронного распыления для нанесения просветляющих, защитных и проводящих оксидных покрытий на солнечные батареи и приборы для АПК. Результаты работы могут найти применение при разработке технологий получения для гелиоустановок и приборов в АПК оксидных покрытий необходимых толщины, структуры и физических свойств. Используемые в работе методы исследования не зависят от природы и состава осаждаемых покрытий и могут применяться при исследовании процессов их получения магнетронным распылением различных материалов.