Выбор параметров микрорельефа алмазного ДОЭ на основе численного анализа локальных технологических погрешностей
Автор: Павельев В.С., Головашкин Д.Л., Кононенко В.В., Пименов С.М.
Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics
Рубрика: Технологии компьютерной оптики
Статья в выпуске: 24, 2002 года.
Бесплатный доступ
Работа посвящена анализу систематических технологических погрешностей, возникающих при изготовлении алмазных ДОЭ с помощью прямой лазерной абляции. Целью предлагаемой статьи является численный анализ (в рамках электромагнитной теории дифракционных решеток) влияния погрешностей формируемого рельефа на стыках элементарных областей структурирования. В работе делаются заключения о характере влияния технологических погрешностей на работу ДОЭ и сформированы рекомендации по минимизации потерь энергии, связанных с наличием погрешностей.
Короткий адрес: https://sciup.org/14058562
IDR: 14058562