Задержка пробоя микроплазмы в p-n-переходе при эмиссии носителей заряда с двухуровнего центра
Автор: Ионычев В.К., Кадеркаев Р.Р., Швецов А.С., Шестеркина А.А.
Журнал: Огарёв-online @ogarev-online
Статья в выпуске: 18 т.4, 2016 года.
Бесплатный доступ
Анализируется влияние глубоких центров на статистическую задержку пробоя микроплазмы в p-n-переходе. Проведен численный расчет вероятности включения микроплазмы в случае эмиссии носителей заряда с двухуровневой ловушки. Показаны характерные особенности в распределении статистической задержки пробоя микроплазмы по длительности, когда два близко расположенных уровня принадлежат двум различным зарядовым состояниям одного и того же центра.
Включение микроплазмы, глубокие центры, зарядовое состояние центра, статистическая задержка пробоя, эмиссия носителей заряда
Короткий адрес: https://sciup.org/147249178
IDR: 147249178
Текст научной статьи Задержка пробоя микроплазмы в p-n-переходе при эмиссии носителей заряда с двухуровнего центра
Многозарядная ловушка может последовательно испускать несколько электронов либо дырок. Особенности тепловой ионизации глубоких центров возникают в случае, когда два близко расположенных уровня принадлежат двум различным зарядовым состояниям одного и того же центра. Эти особенности возникают из-за того, что концентрация центров в определенных зарядовых состояниях перераспределяется между двумя состояниями в процессе ионизации. Конкретный центр может быть в одном зарядовом состоянии. Электроны и дырки эмитируют с центра последовательно, поэтому могут возникать ситуации, когда эмиссия с одного зарядового состояния ограничивает выброс с другого [2].
Если глубокий центр создает два энергетических уровня в запрещенной зоне, то он может находиться в трех зарядовых состояниях. Изменение числа центров в данном зарядовом состоянии возможно в результате: захвата электрона либо дырки на центр, эмиссии электрона или дырки с центра. Для центра, оказавшегося в области пространственного заряда (ОПЗ), первые два процесса исключаются. Существенную роль играет один из процессов эмиссии, вследствие которого центр последовательно переходит из первого состояния во второе, а затем в третье. При этом поступательно уменьшается число носителей заряда на центре. Схема таких переходов показана на рисунке 1.
Рис. 1. Схема термических переходов и зависимость скорости эмиссии с двухуровневого центра от температуры. 1 – е n1 ; 2 – e n2
Рассмотрим для определенности полупроводник n-типа. В качестве начальных условий выберем полное заполнение центров носителями заряда (N20=Nt). Все центры захватили по два электрона. При некоторой температуре, достаточной для перехода электронов с уровней в зону проводимости, концентрация центров в различных зарядовых состояниях будет изменяться. Выброс электрона с уровня, соответствующего состоянию N2, в зону проводимости переводит центр в состояние N1. Вероятность этого выброса определяется скоростью термической эмиссии en2. Только после этого возможен выброс электрона из состояния N1 в зону проводимости, вероятность которого en1. Следовательно, изменение концентрации центров в состоянии N2 происходит за счет одного процесса, а в N1 – за счет двух процессов, что описывается системой кинетических уравнений dNdN
= - en 2 N 2 ; , = — en i N1 + en 2 N 2
dtdt с начальными условиями N2(0)=Nt, N1(0)=0. При этом в процессе перезарядки центра выполняется условие N2(t)+N1(t)+N0(t)=Nt. Решение системы уравнений (1) дает:
N1 (t) = en'Nt (exp(-en 1 t) - exp(-en2t)) , en 2 - en 1
N2(t) = Nt exp(- en2t) .
Скорости эмиссии электронов из зарядовых состояний N 2 и N 1 будут определяться как
G 1 ( t ) = en 1 N^t ), G 2( t ) = en 2 N 2( t ) .
Для функции распределения задержки пробоя МП по длительности, обусловленной реэмиссией носителей с двухуровневой ловушки, получено следующее выражение [3]:
1 -
p
Mt
= exp] A
e ~ e - 2 — 2 e 1 /\ n2 n2
exP (— e n , t ) + exp e n 2 1 ) — 2 f ,
. en 2 en 1 en 2 en 1
Ln где A = SMNt j Pn (x)dx, Lm, Ln – границы области релаксации носителей заряда с глубоких Lm уровней, SM – площадь микроплазмы; Pn(x) – вероятность запуска лавины носителем заряда.
Для анализа выражение (4) удобно представить в полулогарифмической системе координат в виде
^( t) = Ц1 — PMt ) = ^1 (t) + ^2 (t),
где
^1( t) = A
n 2
e ~ — e .
n 2 n 1
exp(— en 1 t)- 1
^2(t) = A
' n 2 2 e n 1 / Л 1
----------exP(— en 2 t )- 1
e n 2 — e n 1
Физический смысл параметра A состоит в следующем. Величина exp(– A ) есть вероятность того, что по истечении времени, когда установится стационарное состояние ловушки, после подачи прямоугольного импульса перенапряжения, микроплазма не включится. Теоретически это время равно бесконечности.
На рисунке 2 приведены результаты расчетов функции ^ ( t ) , ^( t ) и ^ 2 ( t ) при различных соотношениях e n1 и e n2 . Для удобства расчетов величина A взята равной 1. В определенном диапазоне температур, когда e n1 и e n2 равны или близки друг другу, разделить два процесса перезарядки двухуровнего центра из функции распределения статистической задержки пробоя не представляется возможным (см. рис. 2а, 2б), тем более, если экспериментальная кривая ^ ( t ) не достигает насыщения - величины 2 A . Будет обнаружен только один уровень, но с неверным значением концентрации.


а)
б)


в)
г)
Рис. 2. Функции распределения задержки пробоя микроплазмы при эмиссии e электронов с двухуровневой ловушки. n1 : а) – 0,5; б) – 2; в) – 5; г) – 0,2.
n 2
Чтобы раздельно определить вероятности ионизации обоих зарядовых состояний, необходимо экспериментально осуществить различные начальные заполнения этих состояний. Если скорости эмиссии с уровней сильно различаются, во всяком случае, более чем в несколько раз, то разделить эти два процесса можно путем аппроксимации кривой ^ ( t ) суммой экспонент и констант. В случае e ni >> e n2 , выброс электронов с зарядового состояния N 2 сильно лимитирует процесс эмиссии с зарядового состояния N 1 , и функция распределения задержки пробоя <р( t ) имеет характерный выпуклый начальный участок (см. рис. 2в). Когда e n1 превышает e n2 более, чем в десятки раз, ϕ ≈ A , и перезарядка ловушки практически определяется скоростью эмиссии носителей e n2 из зарядового состояния N 2 , но с удвоенной концентрацией центров, т.е. с уровня, соответствующего зарядовому состоянию N 1 электроны эмитируют почти мгновенно вслед за электронами из состояния N 2 . При e n2 >> e ni , функция распределения ^ ( t ) имеет такой же вид (см. рис. 2г), что и в случае эмиссии основных носителей с уровней, принадлежащих двум различным по природе центрам [1; 4]. Разделить эти два уровня большого труда не представляет, а идентифицировать уровни можно лишь по концентрации центров.
В результате проведенной работы получено математическое выражение и проведены расчеты вероятности включения микроплазмы в случае эмиссии носителей заряда с двухуровневой ловушки. Показаны характерные особенности в распределении статистической задержки пробоя микроплазмы по длительности, когда два близко расположенных уровня принадлежат двум различным зарядовым состояниям одного и того же центра.
Список литературы Задержка пробоя микроплазмы в p-n-переходе при эмиссии носителей заряда с двухуровнего центра
- Булярский С. В., Сережкин Ю. Н., Ионычев В. К. Статистическая задержка пробоя микроплазмы в фосфидгаллиевых p-n-переходах//ФТП. -1999. -Т. 33. -Вып. 11. -С. 1345-1349. EDN: RGPOZH
- Ионычев В. К. Микроплазменная спектроскопия глубоких уровней в p-n-переходах. -Саранск: Изд-во Мордов. ун-та, 2005. -132 с.
- Ионычев В. К., Ребров А. Н. Численный расчет вероятности включения микроплазмы в p-n-переходе//Известия вузов. Электроника. -2006. -№ 4. -C. 23-30. EDN: HTVZBV
- Ионычев В. К., Ребров А. Н. Исследование глубоких центров в микроплазменных каналах кремниевых лавинных эпитаксиальных диодов//ФТП. -2009. -Т. 43. -Вып.7. -С. 980-984. EDN: RCPYUL