Анализ параметров управления плазменной установкой

В статье отражены результаты анализа, проведенного для выявления параметров управления плазменной установкой научно-исследовательской лаборатории «Плазменные и энергетические технологии» Восточно-Сибирского государственного университета технологий и управления. Плазменная установка питается от источника постоянного тока, и основными регулируемыми параметрами являются ток и напряжение на электрической дуге. От величины тока, протекающего в плазменной установке, зависит температура плазмы и соответственно режимы обработки различных материалов. В свою очередь, обрабатываемые материалы имеют разный химический состав (например, уголь, золошлаки, горные породы, твердые бытовые отходы, медицинские отходы и др.) При их обработке требуется регулирование в широком диапазоне токов, удельных энергозатрат и температурных режимов. Таким образом, плазменная установка является сложным многосвязным объектом. Параметры, которыми необходимо управлять, имеют разную природу. Выявление взаимосвязи между параметрами осуществляется с помощью метода построения структурного графа (С-графа).