Гальваностатическое исследование электропереноса на контакте RbCuCl I 4 3 2
Автор: Остапенко Г.И.
Журнал: Известия Самарского научного центра Российской академии наук @izvestiya-ssc
Рубрика: Физика твёрдого тела и твердотельная электроника
Статья в выпуске: 1 т.2, 2000 года.
Бесплатный доступ
Исследована кинетика процесса электропереноса, происходящего на стеклоуглеродном электроде в контакте с твердым электролитом RbCu Cl I. В интервале потенциалов от нуля до потенциала 4 3 2 разложения электролита на электроде происходит обратим ая электрохимическая реакцияCu+ e ? Cu2+. Скорость электродной реакции контролируется диффузией Cu2+ ионов в электролите. Коэффициент диффузии Cu2+ ионов равен 1,5?10-8 см2/с. Плотность тока обмена электродной реакции составляет около 20?10-6 А/cм2.
Короткий адрес: https://sciup.org/148197560
IDR: 148197560
