Электронная литография как наиболее инновационный метод литографии
Автор: Лунякина Т.А.
Журнал: Форум молодых ученых @forum-nauka
Статья в выпуске: 5-2 (21), 2018 года.
Бесплатный доступ
В статье говорится о существующих современных методах литографии. Описаны общие шаги процесса литографии в полупроводниковом производстве. Рассмотрены тенденции развития полупроводниковой промышленности в целом. Произведен анализ методов литографии на основе информации о современной полупроводниковой промышленности, и выбран наиболее инновационный метод литографии: электронная лучевая литография, - как метод, позволяющий повысить технологически уровень полупроводниковой промышленности.
Полупроводник, полупроводниковое производство, мэмс литография, фотолитография, экспонирование, травление, длина волны, кремний, фотошаблон, производительность
Короткий адрес: https://sciup.org/140282752
IDR: 140282752
Список литературы Электронная литография как наиболее инновационный метод литографии
- Д. С. Саленко, «История развития и области применения технологии МЭМС», Автоматика и программная инженерия, № 3 (5), pp. 68-74, 2013.
- С. Сысоева, «МЭМС-технологии - простое и доступное решение сложных системных задач», Электроника: Наука, Технология, Бизнес, № 7, pp. 80-89, 2009.
- С. Е., «SEMICON Russia как зеркало мировой промышленной революции. Новые времена новая концепция», Электроника: Наука, Технология, Бизнес, № 7, pp. 80-89, 2009.
- У. Д.М., «Концепция по развитию производства МЭМС-изделий в России на период до 2017 г.», новости // нано- и микросистемная техника, 2012.
- Б.Я. Кампхербек, Э. Хуберихт, М. Вееда, Д. Шамирян Новые возможности для полупроводникового производства в России // ООО «Маппер». Москва. 2015.
