Калибровка просвечивающего электронного микроскопа с использованием срезов рельефных структур
Автор: Васильев Александр Леонидович, Гавриленко Валерий Петрович, Ковальчук Михаил Валентинович, Митюхляев Виталий Борисович, Озерин Юрий Васильевич, Раков Александр Васильевич, Роддатис Владимир Владимирович, Тодуа Павел Андреевич, Филиппов Михаил Николаевич
Журнал: Труды Московского физико-технического института @trudy-mipt
Рубрика: Нанотехнология и нанометрия
Статья в выпуске: 1 (17) т.5, 2013 года.
Бесплатный доступ
Предложен новый тест-объект для калибровки просвечивающего электронного микроскопа и растрового просвечивающего микроскопа. Тест-объект изготовлен путем ионного резания кремниевой рельефной структуры с аттестованными размерами элементов рельефа, что позволило его использовать как в диапазоне больших увеличений (при прямом наблюдении кристаллической решетки), так и в диапазоне средних (вблизи 30 000-х) увеличений.
Тест-объект, просвечивающий электронный микроскоп, рельефные структуры
Короткий адрес: https://sciup.org/142185892
IDR: 142185892
Список литературы Калибровка просвечивающего электронного микроскопа с использованием срезов рельефных структур
- Reimer L. Transmission Electron Microscopy: Image Formation and Microanalysis. -Berlin: Springer, 1997.
- Becker P., Bettin H., Danzebrink H.-U., Glдser M., Kuetgens U., Nicolaus A., Schiel D., De Biиvre P., Valkiers S., Taylor P. Determination of the Avogadro constant via the silicon route//Metrologia. -2003. -V. 40 -P. 271-287.
- SRM 2000: calibration standard for high-resolution 𝑥-ray diffraction/Gaithersburg: National Institute of Standards and Technology, 2008.
- Handbook of Silicon Semiconductor Metrology/ed. by Diebold A.C. -New York: Dekker, 2001.
- Orji N.G., Dixson R.G., Garsia-Gutierrez D.I., Bunday B.D., Bishop M., Cresswell M.W., Allen R.A., Allgair J.A. TEM calibration methods for CD standards//Proc. SPIE. -2007. -V. 6518. -P. 651810.
- Novikov Yu.A., Ozerin Yu.V., Rakov A.V., Todua P.A. Method for linear measurements in the nanometer range//Meas. Sci. Technol. -2007. -V. 18. -P. 367-373.
- Novikov Yu.A., Darznek S.A., Filippov M.N., Mityukhlyaev V.B., Rakov A.V., Todua P.A. Nanorelief elements in reference measures for scanning electron microscopy//Proc. SPIE. -2008. -V. 7025. -P. 702511.
- Gavrilenko V.P., Mityukhlyaev V. B., Novikov Yu.A., Ozerin Yu.V., Rakov A.V., Todua P A. Test object of the linewidth with a trapezoidal profile and three certified sizes for an SEM and AFM//Meas. Sci. Technol. -2009. -V. 20. -P. 084022.
- Gavrilenko V.P, Filippov M.N, Novikov Yu.A., Rakov A.V., Todua P.A. Test objects for automated dimensional measurements at the nanoscale level using a scanning electron microscope//Proc. SPIE. -2009. -V. 7378. -P. 737813.
- Reimer L. Scanning electron microscopy: Physics of Image Formation and Microanalysis. -Berlin: Springer, 1998.
- Barna A., P/𝑒cz B., Menyhard M. Amorphisation and surface morphology development at low-energy ion milling//Ultramicroscopy. -1998. -V. 70. -P. 161-171.
- McCaffrey J.P., Phaneuf M.W., Madsen L.L. Surface damage formation during ion-beam thinning of samples for transmission electron microscopy//Ultramicroscopy. -2001. -V. 87. -P. 97-104.
- Gao Q., Zhang M., Niou Ch., Li M., Kary Chien W. T. Experiment study on cristal/amorphous structure of TEM samples prepared by FIB milling//Proc. 32nd Int. Symp. for Testing and Failure Analysis. -2006. -P. 76-78.
- Mohr P.J., Taylor D.N. CODATA recommended values of the fundamental physical constants//Rev. Mod. Phys. -2000. -V. 72. -P. 351-495.
- Fundamental physics constants. The NIST Reference on Constants, Units and Uncertainty. http://physics.nist.gov/cuu/Constants.
