Математическое моделирование ионной имплантации из импульсного потока плазмы на обрабатываемое изделие в импульсном электрическом поле
Автор: Денисов С.В., Костычев И.В., Саморуков И.И., Фоминский В.Ю.
Журнал: Вестник Ассоциации вузов туризма и сервиса @vestnik-rguts
Рубрика: Моделирование технических и технологических процессов
Статья в выпуске: 4 т.2, 2008 года.
Бесплатный доступ
Разработана компьютерная модель, описывающая динамику импульсной плазмы и процесс формирования потока высокоэнергетических ионов на обрабатываемую поверхность под воздействием отрицательного высоковольтного импульса, подключаемого к обрабатываемому изделию по заданной программе. Модель позволяет рассчитывать поток и энергетический спектр имплантируемых ионов по начальным характеристикам плазмы и техническим параметрам высоковольтной системы с учетом условий включения электрических импульсов.
Динамика импульсной плазмы, высоковольтный импульс, компьютерная модель, имплантируемые ионы
Короткий адрес: https://sciup.org/140208986
IDR: 140208986
Список литературы Математическое моделирование ионной имплантации из импульсного потока плазмы на обрабатываемое изделие в импульсном электрическом поле
- Быковский Ю.А., Неволин В.Н., Фоминский В.Ю. Ионная и лазерная имплантация металлических материалов. М.: Энергоатомиздат, 1991. 240 с.
- Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation/ed. by A.Anders. New York: Wiley, 2000. 400 p.
- I.G. Brown, A. Anders, M.R. Dickinson, R.A. MacGill, O.R. Monteiro, Recent advances in surface processing with metal plasma and ion beams//Surface and Coatings Technology, 1999. Vol. 112. P. 271-277.
- Fominski V.Yu., Nevolin V.N., Smurov I. Energy and dose characteristics of ion bombardment during pulsed laser deposition of thin films under pulsed electric field//J. Appl. Phys., 2004. Vol. 96. Iss.4. P. 2374-2380.
- Sasaki K.,Matsui S., Ito H., Kadota K. Dynamics of laser-ablation Ti plasmas studied by laser-induced fluorescence imaging spectroscopy//J. Appl. Phys., 2002. Vol. 92. No.11. P. 6471-6476.
- Krasa J., Lorusso A., Doria D. et al. Time-of-flight profile of multiply-charged ion currents produced by a pulse laser//Plasma Phys. Control. Fusion, 2005. Vol. 47., P. 1339-1349.
