О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 7. Определение оптических постоянных объемных материалов. Метод последовательного неразрушающего восстановления оптического профиля поверхности
Автор: Семененко А.И., Семененко И.А.
Журнал: Научное приборостроение @nauchnoe-priborostroenie
Рубрика: Исследования, приборы, модели и методы анализа
Статья в выпуске: 1 т.17, 2007 года.
Бесплатный доступ
Рассмотрены методы решения математически некорректной обратной задачи эллипсометрии. Предложен новый критерий выбора оптимального решения, успешно опробованный в численном эксперименте. На основе результатов численного эксперимента предложен метод последовательного неразрушающего восстановления оптического профиля поверхности. Новый критерий использован также для определения параметров сверхтонких окисных пленок на кремнии, при этом получены физически обоснованные результаты.
Короткий адрес: https://sciup.org/14264476
IDR: 14264476 | УДК: 535.5.511:531.7
On the new potentials of ellipsometry arising from the null optical circuit. Ellipsometry of real surface structures. 7. Determination of bulk material optical constants. Method for successive non-destructive recovery of the surface optical profile
Methods for solving a mathematically incorrect inverse problem are considered. A new criterion for selecting the optimal solution is suggested; the method has been successfully tested in a numerical experiment. Based on the numerical experiment results, a method for successive non-destructive recovery of the surface optical profile has been suggested. The new criterion was also used to determine parameters of super-thin oxide films on silicon; the results obtained were physically reasonable.
