Прибор с зарядовой связью и плотность поверхностных состояний
Автор: Эргашов А.К.
Журнал: Экономика и социум @ekonomika-socium
Рубрика: Основной раздел
Статья в выпуске: 5-2 (72), 2020 года.
Бесплатный доступ
Исследован принцип работы прибора с зарядовой связью. Потеря части заряда дала возможность определения плотности поверхностных состояний на границе раздела полупроводник-диэлектрик
Полупроводник, диэлектрик, прибор с зарядовой связью, плотность поверхностных состояний
Короткий адрес: https://sciup.org/140252312
IDR: 140252312
Текст научной статьи Прибор с зарядовой связью и плотность поверхностных состояний
Исследуя, принцип работы прибор с зарядовой связью(ПЗС) выяснили, что пропускание заряда через ПЗС с поверхностным каналом часть заряда теряется, И эта потеря определяется поверхностными состояниями на границе раздела полупроводник-диэлектрик. Заряд Q n , оставшийся после t=nt 0 времени, где t 0 – частота переключений в ПЗС n-число нулей, окажется равным, Qn = Q o - eNn где Q o -начальный заряд, N n - количество электронов генерированных за время nt 0 . Следовательно, N s - количество электронов на единицу площади, можно найти из формулы
N, (n )= Q-Q-s enS
Где e -заряд электрона, S- общий площадь электродов в ПЗС.
Это обстоятельство может быть использовано для определения поверхностных состояний на границе раздела полупроводник-диэлектрик. В работе [1,2] даётся методика приближенного определения плотности поверхностных состояний с помощью ПЗС.
Для определения плотности поверхностных состояний на границе раздела диэлектрик полупроводник воспользуемся тем, что скорость эмиссии носителей из поверхностных уровней зависит от энергии состояния следующим образом;
( Е А e em = O v T N c exP |-^l
Экспоненциальная зависимость скорости генерации от энергии позволяет провести резкую границу по энергии между свободными и заполненными поверхностными состояниями. Если все поверхности состояния в момент времени t=0 полностью заполнены, то за время t после ухода из поверхности свободных зарядов, ловушки c энергией больше Е, в основном, опустошаются, а состояние с меньшей энергией, в основном, полностью заполнены. Граница энергии, разделяющая заполненные и опустошенные состояния с течением времени сдвигается вглубь запрещенной зоны. Энергия состояния и время генерации связаны соотношением
( Е А t = т0 exp I I где т = ^vTNc.
к kT J
Плотность поверхностных состояний по определению равна
N (Е )= N (Е + ДЕ)- N, (Е) sA ' ДЕ здесь N(Е) - полное число поверхностных состояний расположенных ниже энергии Е.
Используя эти соотношение плотность поверхностных состояний может быть представлена в виде t Ns (t + Д t)- N (t)
N ss ( E ( t )) =
kT
Д t
Изменение интервала времени можно осуществлять, пропустив через линейный регистр последовательность сигнала нулей и единиц. В этом случае из первой единицы, который следует после n нулей, на ловушках захватываются электроны равные пустым ловушкам, которые освободились за время следования нулей.
Пусть число электронов захваченных поверхностными ловушками из первой единицы N ( nt0 ) , здесь n - число нулей, t o - период импульсов. За время n t 0 освобождаются почти все уровни, расположенные выше энергии
Е = kT ln -0 .
Изменение
к т о )
освобождению электронов состояниями сдвинется на
числа нулей на Д n приведет дополнительному
к граница между, пустыми и заполненными
Д Е . В этом случае плотность поверхностных
состояний и потеря заряда на поверхностях связаны, следующим соотношением
N ss ( E ) -
n N (( n + A nt ) - N ( nt0 ) kT А П
Здесь N(nt0) -определяется уменьшением высоты первой единицы, следующий после n нулей.
Если n>>∆n последнее выражение можно записать в виде
N 1 dN(ntо )
Nss(E) kTd (b (n))
Список литературы Прибор с зарядовой связью и плотность поверхностных состояний
- N.Yu. Sharibayev, J.I. Mirzayev. Temperature Dependence of the Density of States and the Change in the Band Gap in Semiconductors. International Journal of Engineering and Advanced Technology (IJEAT),ISSN: 2249 - 8958, Volume-9, Issue-2, pp 1012-1017,2019
- Н.Ю. Шарибаев, М.И. Мирзаев., Изменение ширины запрещенной зоны в ускозонных полупроводниках, Научный вестник НамГУ, №4 2019 ст 22-27.