Free-electron model applying to the thin copper films on the alumina ceramic substrates

Основное

Автор: Solovyev Anatoly Anatolievich, Berezin Vladimir Mikhailovich

Журнал: Вестник Южно-Уральского государственного университета. Серия: Математика. Механика. Физика @vestnik-susu-mmph

Статья в выпуске: 22 (122), 2008 года.

Бесплатный доступ

The authors made an experiment of the Hall effect with the thin copper films on the alumina ceramic substrates. They describe the model which coordinates the experimental and coordinated data.

Thin films, copper, hall effect, free-electron model, alumina ceramic substrate

Короткий адрес: https://sciup.org/147158571

IDR: 147158571

Статья научная