Синтез молибдата свинца PbMoO4 распылением Pb и Mo ионными пучками
Автор: Халтанов В.Э.
Журнал: Вестник Бурятского государственного университета. Химия. Физика @vestnik-bsu-chemistry-physics
Статья в выпуске: 2, 2024 года.
Бесплатный доступ
В статье рассмотрен синтез тонких пленок молибдата свинца PbMoO4 методом распыления ионными пучками. Предложена методика роста тонких пленок PbMoO4 путем независимого распыления двух мишеней (свинца Pb и молибдена Mo) с образованием потоков частиц, падающих на поверхность подложек, где происходит синтез молибдата свинца. Предполагается, что данная методика формирования потоков газообразных частиц свинца и молибдена по направлению к подложке с последующим отжигом в атмосфере полученных пленок приведет к формированию стехиометрических тонких пленок молибдата свинца. Осуществлен расчет коэффициентов распыления мишеней пучками ионов аргона Ar+ с использованием математической программы MathCad. Предложены оптимальные режимы ростовых процессов.
Тонкие пленки, молибдат свинца, синтез, ионные пучки, распыление, потоки частиц
Короткий адрес: https://sciup.org/148328730
IDR: 148328730 | DOI: 10.18101/2306-2363-2024-2-29-32
Текст научной статьи Синтез молибдата свинца PbMoO4 распылением Pb и Mo ионными пучками
Тонкие пленки молибдата свинца PbMoO4 являются весьма перспективными аку-стооптическими материалами. Среди существующих методов выращивания тонких пленок можно выделить метод распыления ионными пучками, который обладает рядом существенных преимуществ [1]. В частности, в данном методе рабочая камера отделена от пространства горения разряда, эксперимент проводится в условиях хорошего вакуума, ионным лучом можно управлять. В результате возможен рост тонких пленок без примесей, с воспроизводимыми свойствами.
В связи с этим исследование закономерностей роста тонких пленок молибдата свинца распылением ионными пучками представляет как научный, так и практический интерес.
В работе предложена методика выращивания тонких пленок молибдата свинца распылением двумя ионными пучками, а также проведен расчет коэффициентов распыления с помощью математической программы MathCad, что позволило определить оптимальные режимы ростовых процессов.
Результаты и обсуждение
В работе была использована установка с двумя ионными пучками [1]. В данной установке возможно осуществлять раздельное распыление двух мишеней двумя ионными пучками. В частности, выращивание тонких пленок молибдата свинца PbMoO4 может быть осуществлено распылением двух мишеней, одна из которых состоит из свинца Pb, а вторая — из молибдена Mo. Такое независимое распыление мишеней позволяет формировать стехиометрический состав газообразных потоков свинца и молибдена к подложке, что позволяет в последующем получать качественные пленки соединения. Предполагалось, что молибден и свинец по-разному распыляются под действием ионных пучков аргона. Следовательно, для каждой мишени необходимо подбирать разные энергии распыляющих ионов.
Такая методика вполне реализуема в данной установке. На рисунке 1 показана конструктивная схема установки с двумя ионными пучками.

Рис. 1. Конструктивная схема установки с двумя ионными пучками: 1 — корпус;
2 — рабочая камера; 3 — стойка; 4 — держатели мишеней; 5 — мишени; 6 — держатели подложек; 7 — подложки; 8 — валик; 9, 10 — плазменные источники ионов;
11, 12 — пучки ионов аргона Ar+
С помощью математической программы MathCad были проведены расчеты, приближенные к реальному эксперименту. В данной работе были осуществлены расчеты по распылению мишеней из свинца и молибдена распылением ионными пучками аргона с введением формул и данных из теории Зигмунда [2]. Свинец и молибден в виде газообразных частиц поступают на поверхность подложки, последующий отжиг получившихся пленок на воздухе приводит к формированию тонких пленок молибдата свинца. Распыление осуществляется в результате каскадов атомных столкновений, подобно бильярдным шарам. Основной характеристикой процесса распыления является коэффициент распыления S, определяющий число выбитых атомов мишени одним падающим ионом (атом/ион). При расчетах учитывался угол падения ионов (углы в эксперименте были меньше 600):
s= s-^ . cosa Коэффициенты распыления рассчитывались по формуле Зигмунда:
s = 0,042 * a * ^, (2)
где α зависит от масс распыляющих ионов аргона М1 и масс распыляемых атомов мишени М2 свинца и молибдена; Sn(E) характеризует энергию упругого торможения ионов; Sn(ψ) — сечение ядерного торможения; U — энергия поверхност- ной связи. Поскольку определение энергии поверхностной связи весьма затруд- нительно, за U в вычислениях принимали энергию сублимации атомов мишени как наиболее близкий процесс.
Энергию упругого торможения иона аргона вычисляли по формуле: sn(E} = 4n*Z1*Z2*e2* cr12 * [ (M^2) ] * sn(^), где ^ = - M 2 E “ 12 2 ; a12 = 0,885 * a0 * (Z f + ZT) ^ ;
(M1+M2)z1z2e2 ’ 12 ' и 1 2
S n (ψ) зависит от ψ и определяется экспериментально; а 0 — радиус Бора.
На рисунке 2 представлены зависимости коэффициентов распыления свинца и

Е, КЭВ
Рис. 2. Зависимость коэффициентов распыления мишеней свинца Pb и молибдена Mo от энергии распыляющих ионов аргона Ar+ .
S (Mo)
S(Pb)
Результаты расчетов показали, что предлагаемая методика синтеза тонких пленок молибдата свинца путем первоначального распыления отдельно двумя пучками ионов аргона мишеней из свинца и молибдена, формирования потоков газообразных частиц свинца и молибдена по направлению к подложке, после- дующим отжигом в атмосфере полученных пленок приведет к формированию стехиометрических тонких пленок молибдата свинца.
Моделирование процессов распыления ионными пучками было проведено с помощью математической программы MathCad.
Расчеты приводят к выводу, что коэффициенты распыления свинца значительно превышают коэффициенты распыления молибдена. Следовательно, необходимо проводить корреляцию в энергии распыляющих ионов аргона для разных мишеней, что позволит определить оптимальные режимы ростовых процессов.
Список литературы Синтез молибдата свинца PbMoO4 распылением Pb и Mo ионными пучками
- Семенов А. П. Пучки распыляющих ионов: получение и применение. Улан-Удэ: Изд-во БНЦ СО РАН, 1999. 208 с. Текст: непосредственный.
- Sigmund P. Theory of sputtering. Phys. Rev. 1969; 184 (2): 383-416.