Свойства пленок нитрида титана, полученных методом магнетронного распыления
Автор: Юрьев Юрий Николаевич, Михневич Ксения Сергеевна, Кривобоков Валерий Павлович, Сиделв Дмитрий Владимирович, Киселева Дарья Васильевна, Новиков Вадим Александрович
Журнал: Известия Самарского научного центра Российской академии наук @izvestiya-ssc
Рубрика: Современные наукоемкие инновационные технологии
Статья в выпуске: 4-3 т.16, 2014 года.
Бесплатный доступ
Путем магнетронного распыления титановой мишени в среде азота и аргона получены пленки нитрида титана (TiN) поликристаллической структуры (111), (200) и (220), обладающие твердостью 9,7-22,6 ГПа и упругостью 153,2-395,7 ГПа. Электрическое сопротивление исследуемых образцов в диапазоне 0,15-1,24 мОм·см. Представлены зависимости фазового состава, микроструктуры, морфологии и физико-механических свойств TiN покрытий от расстояния между плоскостью мишени и подложкой ( d s-t ) и скорости потока N 2 в рабочую камеру.
Нитрид титана, магнетронное распыление, тонкие пленки, реактивное осаждение
Короткий адрес: https://sciup.org/148203276
IDR: 148203276
Список литературы Свойства пленок нитрида титана, полученных методом магнетронного распыления
- Martinez, G. Effect of Thickness on the Structure, Composition and Properties of Titanium Nitride Nano-Coatings/G. Martinez et al.//Ceramics International. 2014. v. 4. p. 5757-5764.
- Meng, Li-Jian. Characterization of Titanium Nitride Films Prepared by D.C. Reactive Magnetron Sputtering at Different Nitrogen Pressures/Li-Jian Meng, M.P. dos Santos//Surface and Coatings Technology. 1997. V. 90. P. 64-70.
- Чапланов, А.М. Структурные и фазовые превращения в тонких пленках титана при облучении азот-водородной плазмой/А.М. Чапланов, Е.Н. Щербакова//Журнал технической физики. 1999. Т. 69, № 10. С. 102-108.
- Берлин, Е.В. Ионно-плазменные процессы в тонкоплёночной технологии/Е.В. Берлин, Л.Н. Сейдман. -М.: Техносфера, 2010. 528 c.
- Yurjev, Y.N. Technological Peculiarities of Deposition Anti-Reflective Layers in Low-E Coatings/Y.N. Yurjev, D.V. Sidelev//Journal of Physics: Conference Series. 2013. V. 479. № 1. Article Number -012018. P. 1-4.
- Musil, J. Discharge in Dual Magnetron Sputtering System/J. Musil, P. Baroch//IEEE Transactions on Plasma Science. 2005. V. 33, № 2. P. 338-339.
- Михневич, К.С. Исследование свойств пленок TiN, полученных с помощью дуальной МРС при различных парциальных давлениях азота и конфигурациях магнитного поля/К.С. Михневич, Ю.Н. Юрьев, О.С. Тупикова//Известия вузов. Физика. 2014. Т. 57, № 3/3. С. 207-210.
- Oh, U.C. Effects of Strain Energy on the Preferred Orientation of TiN Thin Films/U.C. Oh, Ho Je Jung//J. Appl. Phys. 1993. V. 74, № 3. P. 1692-1696.
- Nishat, A. Study on Structural, Morphological and Electrical Properties of Sputtered Titanium Nitride Films under Different Argon Gas Flow/A. Nishat et al.//Materials Chemistry and Physics. 2012. № 134. P. 839-844.
- Костин, Е.Г. Осаждение пленок TiN и TiO2 в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления/Е.Г. Костин, А.В. Демчишин//Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2008. № 4. С. 47-51.
- Pelleg, J. Reactive-Sputter-Deposited TiN Films on Glass Substrates/J. Pelleg, L.Z. Zevin, S. Lungo//Thin Solid Films. 1991. V. 197. P. 117-128.
- Jeyachandran, Y.L. Properties of Titanium Nitride Films Prepared by Direct Current Magnetron Sputtering/Y.L. Jeyachandran et al.//Materials Science and Engineering A. 2007. № 445-446. P. 223-236.
