Оптика - 535

Научные статьи

В разделе "Оптика"
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 6. Эллипсометрия многослойных поглощающих систем. Основные положения
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 7. Определение оптических постоянных объемных материалов. Метод последовательного неразрушающего восстановления оптического профиля поверхности
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 8. Эллипсометрия анизотропных сред. Метод обобщенных измерительных зон
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 9. О возможностях регулирования и стабилизации параметров фазового компенсатора эллипсометра
Дифференциальная регистрация поляризационно-модулированных оптических сигналов
Флуктуации сигнала оптического двулучепреломления в измерениях с глубокой модуляцией поляризации
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 11. Проблема повышения точности в "нулевой" эллипсометрии. Определяющая роль измерительных конфигураций прибора
О нелинейных эффектах в условиях резонансного ПВО
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 12. Способы экспериментального определения положений гашения оптических элементов
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 13. Обобщение теории инвариантов. О выборе измерительных конфигураций в эллипсометрии анизотропных сред
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 14. Межзонный разброс поляризационных углов как метрологический критерий. О влиянии различных факторов
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 15. Метрология "нулевой" эллипсометрии. Фактор оптической юстировки фазового компенсатора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 16. Метрология "нулевой" эллипсометрии. О способах определения полного набора комплексных параметров фазового компенсатора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 17. Метрология "нулевой" эллипсометрии. Об особенностях эксперимента по определению параметров фазового компенсатора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 18. Метрология "нулевой" эллипсометрии. Об экспериментальной аттестации оптических элементов прибора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 19. О выборе оптимального решения обратной задачи при исследовании сверхтонких поверхностных пленок
Исследование поверхностной структуры твердых тел и жидкостей методом эллипсометрии с учетом математической некорректности обратной задачи. 1. Об особенностях обратной задачи при исследовании сверхтонких поверхностных пленок на полупроводниках
Резонансно-оптические методы исследований нелинейных субмикронных границ раздела (обзор)
Измерение длины волны источников излучения эллипсометрическим методом
Исследование поверхностной структуры твердых тел и жидкостей методом эллипсометрии с учетом математической некорректности обратной задачи. 2. О способах определения всех параметров отражающей системы - прозрачной сверхтонкой поверхностной пленки на полупроводниковой подложке