Влияние процессов на стенках капилляра на параметры плазмы положительного столба разряда низкого давления
Автор: Мольков Сергей Иванович
Журнал: Ученые записки Петрозаводского государственного университета @uchzap-petrsu
Рубрика: Физико-математические науки
Статья в выпуске: 2 (123), 2012 года.
Бесплатный доступ
В работе проанализировано влияние эмиссии вторичных электронов, ион-электронной и фотоэмиссии, а также термализации атомов и ионов на стенках капилляра на параметры плазмы положительного столба разряда низкого давления. Рассмотрена роль степени шероховатости поверхности стенки разрядного капилляра в данных процессах.
Разряд низкого давления, эмиссия электронов, коэффициент аккомодации, степень шероховатости стенки, параметры плазмы
Короткий адрес: https://sciup.org/14750112
IDR: 14750112
Список литературы Влияние процессов на стенках капилляра на параметры плазмы положительного столба разряда низкого давления
- Алферов Г. Н., Донин В. И., Смирнов Г. И. О неустойчивости плазмы ионных лазеров//Квантовая электроника. 1981. Т. 6. № 1. С. 13-19.
- Баранцев Р. Г. Взаимодействие разряженных газов с обтекаемыми поверхностями. М.: Наука, 1975. 343 с.
- Биберман Л. М., Воробьев В. С., Якубов И. Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1982. 376 с.
- Бронштейн И. М., Фрайман Б. С. Вторичная электронная эмиссия. М.: Наука, 1969. 407 с.
- Елагин В. В., Лукин А. Я., Фотиади А. Э. О влиянии процессов на стенках разрядной трубки ионных лазеров на их выходные характеристики//Труды ЛПИ. 1985. № 412. С. 70-72.
- Захаров П. Н., Пекар Ю. А. О радиальной функции распределения ионов в разряде низкого давления//ЖТФ. 1970. Т. 40. № 8. С. 1664-1668.
- Захарова В. М., Каган Ю. М. О движении ионов и атомов в плазме//Спектроскопия газоразрядной плазмы. Л.: Наука, 1970. С. 291-318.
- Кирсанов А. В., Мольков С. И. Устойчивость существования положительного столба сильноточного разряда низкого давления в продольном магнитном поле//Материалы VI Всесоюзной конференции по физике плазмы. Л., 1983. С. 434-437.
- Мольков С. И. Влияние шероховатости поверхности стенок разрядной камеры на работу газоразрядных лазеров//Лазеры, измерения, информация. СПб.: Изд-во СППУ, 2010. Т. 1. С. 14-25.
- Мольков С. И., Степанов В. А. Расчет параметров плазмы разряда низкого давления с учетом элементарных процессов на поверхности стенок разрядной трубки//Электронная техника. Сер 4. Вып. 4. 1986. С. 15-22.
- Привалов В. Е. О виртуальных катодах в разряде газового лазера//Оптика и спектроскопия. 1994. Т. 77. № 2. С. 307.
- Привалов В. Е., Фридрихов С. А., Шишкин Г. А. Экспериментальное исследование реактивных колебаний в разрядном промежутке He-Ne лазера//Оптика и спектроскопия. 1974. Т. XXXIV. № 5. С. 982-986.
- Райзер Ю. П. Основы современной физики газоразрядных процессов. М.: Наука, 1980. 415 с.
- Фоменко В. С., Подчерняева И. А. Эмиссионные и адсорбционные свойства веществ и материалов. М.: Атомиз-дат, 1975. 147 с.
- Фортов В. Е., Храпак А. Г., Храпак С. А., Молотков В. И., Петров О. Ф. Пылевая плазма//Успехи физических наук. 2004. Т. 174. № 5. С. 494-544.
- Цендин Л. Д. Переход плазмы низкого давления в высокоионизованное состояние//ЖТФ. 1973. Т. 43. № 8. С. 15951602.
- Цендин Л. Д. Нелокальная кинетика электронов в газоразрядной плазме//Успехи физических наук. 2010. Т. 180. № 2. С. 139-164.
- Forrest J. R., Franklin R. N. The Positive Column in a Magnetic Field at Low Pressures: the Transition from Free-Fall to Ambipolar Conditions//British J. Appl. Phys. 1966. Vol. 17. № 12. P. 1569-1574.
Статья научная
