Особенности фазового состава и строение слоев на основе диборида ТiВ2, сформированных в поверхностных слоях углеродистых сталей при воздействии интенсивных электронных пучков в вакууме

Рассмотрены некоторые особенности кристаллического строения слоев TiB2. Слои были сформированы на углеродистых сталях С20 и У8А с использованием реакционных обмазок, содержащих оксид титана, бор и углерод. Слои получены под действием электронных пучков импульсного и непрерывного действий. Сопоставлены свойства и структура слоев в зависимости от способа образования. Проанализированы и сравнены условия инициирования самораспространяющегося высокотемпературного синтеза и электронно-лучевой наплавки его продуктов.