Анализ зависимости разрешающей способности технологии локального термохимического окисления от параметров структуры светочувствительной пленки хрома

Агафонов Андрей Николаевич Моисеев Олег Юрьевич Корлюков Александр Александрович

Журнал: Компьютерная оптика @computer-optics

Рубрика: Дифракционная оптика, оптические технологии

Статья в выпуске: 1 т.34, 2010 года.

Бесплатный доступ

Исследовано влияние структуры пленки хрома на процессы термохимического окисления, стимулированного лазерным излучением. Приведены результаты численных и натурных экспериментов. Показана возможность записи структур с характерным размером меньше диаметра записывающего лазерного луча.

хром \ окисление \ структура пленки \ кристаллит \ лазерная запись

Похожие статьи в разделе Электротехника

Определение условий формирования нанопористых структур лазерным воздействием
Определение условий формирования нанопористых структур лазерным воздействием

Мурзин Сергей Петрович, Журавлев Олег Анатольевич, Трегуб Николай Валерьевич, Мурзина Юлия Сергеевна

Исследование особенностей многопучковой лазерной термохимической записи дифракционных микроструктур
Исследование особенностей многопучковой лазерной термохимической записи дифракционных микроструктур

Вейко Вадим Павлович, Синв Дмитрий Андреевич, Шахно Елена Аркадьевна, Полещук Александр Григорьевич, Саметов Александр Рашитович, Седухин Андрей Георгиевич

Применение тонких плёнок молибдена для контактных масок при изготовлении микрорельефов элементов дифракционной оптики
Применение тонких плёнок молибдена для контактных масок при изготовлении микрорельефов элементов дифракционной оптики

Волков Алексей Васильевич, Моисеев Олег Юрьевич, Полетаев Сергей Дмитриевич, Чистяков Игорь Владимирович

Метод обработки микроизображений для анализа структур ТЛИППС
Метод обработки микроизображений для анализа структур ТЛИППС

Белоусов Дмитрий Александрович, Достовалов Александр Владимирович, Корольков Виктор Павлович, Микерин Сергей Львович

Короткий адрес: https://sciup.org/14058911

IDS: 14058911