Использования двузонного осциллографа для изучения ВАХ
Автор: Мамаханов А.А., Эргашов А.К., Шарифбаев Р.Н., Тошбоев С.
Журнал: Теория и практика современной науки @modern-j
Рубрика: Основной раздел
Статья в выпуске: 6 (60), 2020 года.
Бесплатный доступ
Обсуждаются проблемы и преимущества получения VAX из экспериментального оборудования, осциллографа, в нормальных учебных лабораторных условиях. Внешние влияния и особенности устройств учитываются в решении задачи. Предложен простой способ получения VAX.
Электронное устройство, вах, осциллограф, полупроводник
Короткий адрес: https://sciup.org/140275539
IDR: 140275539
Текст научной статьи Использования двузонного осциллографа для изучения ВАХ
Для наблюдения графика вольт-ампер эталонный резистор помещается последовательно с исследуемым электронным устройством. Графики и рисунки, использованные в этом исследовании, были подготовлены с использованием программного обеспечения splan. Если мы изучаем полупроводниковый выпрямительный диод, а не резистор, когда мы видим значение напряжения для него, эталонное сопротивление остается, и первый резистор заменяется. Кроме того, в реальных ситуациях работа часто находится на пределе возможностей, поэтому таблицу часто называют «идеальным» или экспериментальным VAX. Это, в свою очередь, гарантирует, что устройство работает правильно в течение длительного времени. Эффективность работы заключается в том, что в будущем на базе контроллера мы сможем быстро получить VAX различных электронных устройств в разных условиях.
Чем выше точность измерения прибора, тем шире диапазон применения[1,2], Значения удельного сопротивления не могут служить четким критерием для классификации веществ.
p=po(1 + at) (1)
Из выражения (1) видно, что повышение температуры вызывает увеличение сопротивления. где удельное сопротивление металла при 0 ° С температурный коэффициент сопротивления составляет 1/273. В полупроводниках природа сопротивления и температурная зависимость проводимости различны, для данного температурного диапазона они соотносятся с помощью следующего выражения р0а.
р = p0e" t (2) или проницаемость: о = о0е Т (3)
где и является константой, которая подходит для конкретного температурного диапазона, характерного для каждого полупроводникового материала. р0о0
В полупроводниках проводимость уменьшается с понижением температуры. Отсюда следует, что свободные носители заряда в полупроводнике образуются в результате воздействия тепла. Полупроводники представляют собой материалы, которые имеют определенную проводимость при комнатной температуре в диапазоне (Ом-1 см-1), который во многом зависит от структуры вещества, типа и количества постороннего вещества и внешних условий 10-6 ^ 104 [3].
Проводимость зависит от внешних воздействий, таких как температура, свет, электрические и магнитные поля и излучение ядерных частиц. В ионной проводимости ток проходит через ионы вещества, обычными представителями ионной проводимости являются электролиты. Полупроводники могут быть как электронными, так и ионными, В этой статье мы рассмотрим только физические свойства электронных полупроводников. Полупроводники представляют собой небрикетированные вещества: барий Б; кремний Si; фосфор Р; олтингугурт S; германий Ge; арсенид А; серый олово Sn; селен се; Теллур Те и многие сложные химические соединения могут быть приведены в качестве примеров [4],
Образование свободных электронов в полупроводниковых веществах объясняется теорией зон, основанной на квантовой физике [5-6], Когда образуется полупроводниковое вещество, то есть когда атомы приближаются друг к другу на расстоянии около 108 см, волновые функции электронов атомов совпадают. За счет этого уровень энергии валентных электронов становится зональным. Эта зона называется валентностью [7], Фиксированные энергетические зоны отделены друг от друга прерыванием энергии, называемым запрещенной зоной. Это зависит от химических связей образующихся элементов. Если исследовать плотность тока, образующегося в проводимости, из скорости и концентрации свободных электронов в движении, то следующим образом / = — ^ и.
Предположим, что все квантовые состояния в энергетической зоне заняты электронами. В этом случае будет существовать плотность электрического тока для всей электронной системы. Потому что любой электрон со скоростью v может быть взаимосвязан. Когда ковалентные связи в полупроводнике разрываются, например, из-за нагрева, появляются пустой электрон и дырка на его месте / = —^v£vs = 0 [5]. Это эквивалентно переходу электрона из валентной зоны в зону проводимости. Общая плотность тока всех электронов в валентной зоне записывается следующим образом;
J = -^X v s^i - -^ S barcha S + ^ (4)
^ ^ satx uchun ^
из этого выражения ясно, что плотность тока для правой стороны равна нулю. Скорость электрона определяется с учетом следующих предположений. Следовательно (n) Пусть dt - вероятность столкновения электрона во времени. Мы также предполагаем, что вероятность столкновения, соответствующего 1/т единичного времени, не зависит от времени, то есть это определенное постоянное значение. - Количество столкновений для n частиц во времени равно dt, соответственно, n dt/t0. Чтобы увеличить емкость устройства, установка источника тепла, который обеспечивает температуру выше комнатной, показывает, что проводимость проводящего элемента зависит от температуры. По этой причине можно получить источник тепла с помощью электричества или работать на основе выражений. В то же время можно игнорировать изменения температуры в течение мгновенного интервала времени. Потому что когда это произойдет. Следовательно, чем меньше время выключения VAX, тем выше точность. В связи с этим целесообразно получение VAX с помощью осциллографа, а также использование метода, основанного на автоматизации на основе устройств, собранных на основе микроконтроллера
dn - n<^^di~dT ^^~dTd.td.t ^ 0dT ^ 0 t r
Чтобы определить VAX, нам также нужно знать силу тока. Потому что, если мы поместим напряжение (V) вдоль оси X на графике, мы разместим ток (мА) вдоль оси Y и опишем их взаимозависимость на том же графике. Технология электроники сегодня состоит в основном из полупроводниковых материалов. Получение VAX под воздействием внешних воздействий, включая температурную деформацию, электростатическое поле, электромагнитное поле, переменное электромагнитное поле и т. Д., Является довольно сложным процессом в этом исследовании. настройки идут. Это в свою очередь требует автоматизации работы.
Список литературы Использования двузонного осциллографа для изучения ВАХ
- П. Кова и А. Сингх, "Температурная зависимость IV и CV характеристик Ni / n-CdF2 диодов барьера Шоттки", Твердотельный Электрон.том 33, нет. 1, с. 11-19, 1990, 10.1016 / 0038-1101 (90) 90003-W. DOI: 10.1016/0038-1101(90)90003-W
- Дж. Л. Чжан, Дж. С. Юань, Ю. Ма, А. С. Оутс, "Моделирование прямого туннелирования и влияния шероховатости поверхности на характеристики CV МОП-конденсаторов со сверхтонкими затворами", Твердое вещество. Государство. Электрон.том 45, нет. 2, с. 373-377, 2001, 10.1016 / S0038-1101 (00) 00234-3. DOI: 10.1016/S0038-1101(00)00234-3
- Гулямов Г.И., Эркабоев Ю.И., Шарибаев Н.Я. Моделирование температурной зависимости плотности состояний в сильном магнитном поле. J. Мод. Phys.том 05, нет. 08, стр. 680-685, 2014, 10.4236 / jmp.2014.58079. DOI: 10.4236/jmp.2014.58079
- Гулямов Г.Г., Дадамирзаев М.Г., Шарибаев Н.Я., Зокиров Н.М. ЭДС носителей с горячим зарядом, возникающих на pn-переходе под воздействием СВЧ-поля и света. J. Electromagn. Анальный. Appl.том 07, нет. 12, с. 302-307, 2015, 10.4236 / jemaa.2015.712032. DOI: 10.4236/jemaa.2015.712032
- Г. Гулямов, А. Г. Гулямов, А. Г. Эргашев, Б. Т. Абдулазизов, "Использование фазовых портретов для изучения процессов генерации-рекомбинации в полупроводниках".
- Х. Чжэн, Г. Чен и С. М. Роуланд, "Влияние напряжений переменного и постоянного тока на электрическое дерево в полиэтилене низкой плотности" Int. J. Electr. Сила Энергия Сист.том 114 января 2020, 10.1016 / j.ijepes.2019.105386. DOI: 10.1016/j.ijepes.2019.105386
- Гулямов Г.Ю., Эркабоев Ю.И., Шарибаев Н.Я. Исследование температурной зависимости колебаний магнитной восприимчивости в полупроводниках. J. Мод. Phys.том 05, нет. 17, с. 1974-1979, 2014, 10.4236 / jmp.2014.517192. DOI: 10.4236/jmp.2014.517192