Оптика - 535

Научные статьи

В разделе "Оптика"
Локальное легирование алюминиевых сплавов с применением лазерного воздействия
Передача электронного возбуждения в ап-конверсионных наночастицах, содержащих редкоземельные ионы
Генератор излучения на основе нелинейного метаматериала с отрицательным показателем преломления
Оптические таммовские состояния на границе раздела холестерический жидкий кристалл - металл
Острая фокусировка лазерного света путем резонансного возбуждения в однородном диэлектрическом микроцилиндре
Исследование методов "слепого" разделения сигнала
Диагностика тонких полупроводниковых слоев с помощью спектроскопии поверхностного плазмонного резонанса с использованием света круговой поляризации
Моделирование определения длины световой волны с помощью дифракционной решетки на Python
Моделирование внешнего фотоэлектрического эффекта на фотоэлементах с использованием Python
Об особенностях метрологического обеспечения эллипсометрии. Новый метрологический критерий
Эллипсометр, сочетающий в себе «нулевой» и фотометрический подходы
О характере математической некорректности обратной задачи эллипсометрии для сверхтонких поверхностных пленок
Критерии выбора оптимальной точки при решении некорректной обратной задачи эллипсометрии для сверхтонких поверхностных пленок
Обеспечение температурной устойчивости параметров компенсатора эллипсометра
Развитие эллипсометрии
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 1. Общее описание основных направлений исследования
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 2. О роли углов полной поляризации в эллипсометрии
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 3. Методы прецизионного определения параметров фазового компенсатора эллипсометра
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 4. Исследование относительно толстых прозрачных пленок и нарушенных поверхностных слоев на прозрачных материалах
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 5. Углы полной поляризации в эллипсометрии поглощающих сред
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 6. Эллипсометрия многослойных поглощающих систем. Основные положения
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 7. Определение оптических постоянных объемных материалов. Метод последовательного неразрушающего восстановления оптического профиля поверхности
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 8. Эллипсометрия анизотропных сред. Метод обобщенных измерительных зон
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 9. О возможностях регулирования и стабилизации параметров фазового компенсатора эллипсометра
Дифференциальная регистрация поляризационно-модулированных оптических сигналов
Флуктуации сигнала оптического двулучепреломления в измерениях с глубокой модуляцией поляризации
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 11. Проблема повышения точности в "нулевой" эллипсометрии. Определяющая роль измерительных конфигураций прибора
О нелинейных эффектах в условиях резонансного ПВО
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 12. Способы экспериментального определения положений гашения оптических элементов
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 13. Обобщение теории инвариантов. О выборе измерительных конфигураций в эллипсометрии анизотропных сред
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 14. Межзонный разброс поляризационных углов как метрологический критерий. О влиянии различных факторов
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 15. Метрология "нулевой" эллипсометрии. Фактор оптической юстировки фазового компенсатора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 16. Метрология "нулевой" эллипсометрии. О способах определения полного набора комплексных параметров фазового компенсатора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 17. Метрология "нулевой" эллипсометрии. Об особенностях эксперимента по определению параметров фазового компенсатора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 18. Метрология "нулевой" эллипсометрии. Об экспериментальной аттестации оптических элементов прибора
О новых возможностях метода эллипсометрии, обусловленных "нулевой" оптической схемой. Эллипсометрия реальных поверхностных структур. 19. О выборе оптимального решения обратной задачи при исследовании сверхтонких поверхностных пленок
Исследование поверхностной структуры твердых тел и жидкостей методом эллипсометрии с учетом математической некорректности обратной задачи. 1. Об особенностях обратной задачи при исследовании сверхтонких поверхностных пленок на полупроводниках
Резонансно-оптические методы исследований нелинейных субмикронных границ раздела (обзор)
Измерение длины волны источников излучения эллипсометрическим методом
Исследование поверхностной структуры твердых тел и жидкостей методом эллипсометрии с учетом математической некорректности обратной задачи. 2. О способах определения всех параметров отражающей системы - прозрачной сверхтонкой поверхностной пленки на полупроводниковой подложке